[实用新型]等离子割炬的两点支架

说明书

本实用新型提供一种用于等离子割炬的两点支架，主体，所述主体具有内表面、外表面、近端、远端弧形结构，以及至少一个排放通道，所述排放通道连通所述内表面和所述外表面；所述两点支架由于远端是弧型设计，当所述两点支架挨着工件滑动切割时，能够使等离子割炬的引弧距离始终是一个恒定的尺寸，达到更加可靠的引弧成功率；所述两点支架具有少一个排放通道，使得离子割炬腔体内外压力均衡，而不会由于等离子割炬在切割时，气体在向外吹的时候枪头保护帽和喷嘴之间产生负压，从而吸进铁渣造成短路。

技术领域

本实用新型涉及离子切割技术领域，更具体而言，本实用新型涉及改进后的两点支架。

背景技术

等离子切割(PAC)产生于20世纪40年代，直至20世纪50年代中期开始投入工业运用。它是利用高能量密度的等离子弧和高速的等离子流，将融化的金属从割口处吹走，从而形成连续切口的一种切割方法。该切割技术具有能量密度高、切割变形小、切割前不需预热、切割金属范围广等优点，在工业上尤其是制造业中应用日益广泛。

与传统的火焰切割相比，在厚度小于25mm的情况下，等离子切割速度更快、效率更高、质量更好。与激光切割相比，在切割成本上显出明显优势，几乎是激光切割的1/3，且激光只适合薄板的切割，应用范围较窄。另外数控等离子切割与自动套料编程软件配合可以提高材料利用率5％到10％，按年切割2000万吨计，则每年可节省钢材100—200万吨，价值几十亿元。故在工业发达国家已出现以数控等离子切割机取代火焰切割机和激光切割机的发展趋势。因此研究推广等离子切割技术尤其是数控等离子切割技术具有重要的意义和深远的发展前景。

通常使用的等离子割炬的两点支架，它是嵌套在外喷嘴的表面，其远端是一个垂直面，且没有排放孔连接内表面和外表面，缺点在于：1.等离子割炬在使用过程中两点支架有位置偏移的可能性；2.在边缘切割时电极和工件的引弧距离不能保证始终是一个尺寸；3.等离子割炬在切割时，气体在向外吹的时候枪头保护帽和喷嘴之间会产生负压，从而吸进铁渣造成短路。

实用新型内容

针对现有技术存在的问题，本实用新型提供一种等离子割炬的两点支架，目的是阻止等离子割炬在使用过程中两点支架发生偏移；另一目的是使等离子割炬在边缘切割时电极和工件的引弧距离始终保证是一个尺寸；另一目的是等离子割炬在切割时，阻止气体在向外吹的时候枪头保护帽和喷嘴之间产生负压，从而避免吸进铁渣造成短路。

本实用新型的技术方案是：一种用于等离子割炬的两点支架，包括：

主体，所述主体具有内表面、外表面、近端、远端弧形结构，以及至少一个排放通道，所述排放通道连通所述内表面和所述外表面；所述远端弧形结构的尺寸做成使等离子割炬的引弧距离始终是一个恒定的尺寸。

进一步的，所述内表面是一个开放的腔体，所述腔体的尺寸做成能够收纳用于等离子割炬的电极的至少一部分。

进一步的，所述外表面的尺寸做成能够被用于等离子割炬的枪头保护帽所收纳。

进一步的，所述近端被等离子割炬的外喷嘴和等离子割炬的枪头保护帽所压紧。防止转动。

进一步的，所述至少一个排放通道是排放孔。所述排放孔使得等离子割炬腔体内外压力均衡，而不会由于等离子割炬在切割时，气体在向外吹的时候枪头保护帽和喷嘴之间产生负压，从而吸进铁渣造成短路。

进一步的，所述排放孔为圆孔或者菱形孔。

本实用新型的有益效果是：两点支架的内表面将等离子割炬的电极收纳在内，等离子割炬的保护帽将两点支架的外表面收纳在内，且两点支架近端被外喷嘴和保护帽压紧，这样本实用新型两点支架将牢牢的固定在枪头上，不会发生尺寸偏移。

两点支架的两点支架远端设计成弧状，这样等离子割炬在边缘切割时电极和工件的引弧距离始终保证是一个尺寸；达到更加可靠的引弧成功率。