[实用新型]陶瓷施釉坯体擦底装置有效
| 申请号： | 201721759448.7 | 申请日： | 2017-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN207874521U | 公开（公告）日： | 2018-09-18 |
| 发明（设计）人： | 刘怀贵 | 申请（专利权）人： | 钦州华竹食品有限公司 |
| 主分类号： | B28B11/22 | 分类号： | B28B11/22;B28B11/04 |
| 代理公司： | 南宁东智知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 45117 | 代理人： | 巢雄辉;汪治兴 |
| 地址： | 535000 广西壮族自*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 传送装置 滚轮 坯体 施釉 滚轮座 滚筒座 陶瓷 支架 本实用新型 传送带 滚筒 转轴 传送 工作效率高 滚筒设置 支架下部 有效地 擦拭 自动化 | ||
1.一种陶瓷施釉坯体擦底装置，其特征在于：包括支架（1）、第一传送装置和第二传送装置，所述第一传送装置设置在支架（1）的前部，所述第二传送装置设置在支架（1）的后部，所述第一传送装置包括滚筒座（3）、滚筒（5）和传送带（6），所述滚筒座（3）设置在支架（1）的顶部，所述滚筒（5）设置在滚筒座（3）上，所述传送带（6）设置在两个以上的滚筒（5）上，所述传送带（6）呈平行循环传送形状；所述第二传送装置包括滚轮座（2）、滚轮（4）和传送条（7），所述滚轮座（2）设置在支架（1）的下部和顶部，所述滚轮（4）上设有转轴，所述滚轮（4）通过转轴设置在滚轮座（2）上，所述传送条（7）设置在支架（1）下部和顶部的滚轮（4）上，所述传送条（7）呈三角循环传送形状。
2.根据权利要求1所述的陶瓷施釉坯体擦底装置，其特征在于：所述滚轮（4）上设有两个轮体（12），两个轮体（12）之间通过轴承（11）连接，所述轮体（12）上设有托腔（13），所述传送条（7）为两条，平行设置在轮体（12）的托腔（13）上。
3.根据权利要求2所述的陶瓷施釉坯体擦底装置，其特征在于：所述平行设置的传送条（7）之间的宽度小于陶瓷底的直径，所述托腔（13）上的两条传送条（7）传送速度不同。
4.根据权利要求1所述的陶瓷施釉坯体擦底装置，其特征在于：所述支架（1）上设有支持杆（8），所述支持杆（8）上设有传感器（9）。
5.根据权利要求1所述的陶瓷施釉坯体擦底装置，其特征在于：所述传送带（6）和传送条（7）的两侧均设有防护栏（10）。
6.根据权利要求1所述的陶瓷施釉坯体擦底装置，其特征在于：所述第一传送装置和第二传送装置均设有驱动机构，第一传送装置设有的驱动机构与滚筒（5）连接，第二传送装置设有的驱动机构与滚轮（4）连接。
7.根据权利要求6所述的陶瓷施釉坯体擦底装置，其特征在于：所述驱动机构为伺服电机。
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