[实用新型]一种CIGS薄膜预处理的系统

权利要求书

1.一种CIGS薄膜预处理的系统，其特征在于，包括：射频电源、电感线圈、工艺腔室、适配模块、阴极板和石英罩；

所述电感线圈环绕设置于所述工艺腔室的顶部，所述工艺腔室的底部设置有阴极板，并在所述电感线圈与所述阴极板之间设置衬底；

所述射频电源包括：第一功率电源和第二功率电源，所述第一功率电源通过所述适配模块对所述电感线圈供电，所述第二功率电源通过所述适配模块对所述阴极板供电，其中，第一功率大于第二功率；

所述适配模块用于调节所述电感线圈和所述阴极板的电流，以形成射频电压，并使所述电感线圈产生指定频率的射线；

在所述射频电压的作用下，所述电感线圈形成的射线透过所述石英罩进入所述工艺腔室，使所述工艺腔室内的工艺气体形成等离子体，所述等离子体在电压作用下向所述阴极板方向运动，并轰击在衬底上CIGS薄膜的凹凸不平处，使所述CIGS薄膜平整。

2.根据权利要求1所述的CIGS薄膜预处理的系统，其特征在于，所述电感线圈为Cu线圈，所述电感线圈为螺旋状设置在所述工艺腔室的顶部。

3.根据权利要求2所述的CIGS薄膜预处理的系统，其特征在于，所述工艺气体为氩气。

4.根据权利要求3所述的CIGS薄膜预处理的系统，其特征在于，所述适配模块包括：第一电容和第二电容，所述第一电容为可调谐电容，所述第二电容为固定电容，所述第一电容与所述电感线圈串联连接，所述第二电容与所述电感线圈并联连接。

5.根据权利要求4所述的CIGS薄膜预处理的系统，其特征在于，所述衬底为玻璃基板。

6.根据权利要求5所述的CIGS薄膜预处理的系统，其特征在于，还包括：加热装置；

所述加热装置设置在所述工艺腔室内，使所述工艺气体的温度保持在设定温度范围内。