[实用新型]一种质量流量控制器有效
申请号: | 201721794204.2 | 申请日: | 2017-12-20 |
公开(公告)号: | CN207764658U | 公开(公告)日: | 2018-08-24 |
发明(设计)人: | 赵青松;南建辉 | 申请(专利权)人: | 北京创昱科技有限公司 |
主分类号: | G05D7/06 | 分类号: | G05D7/06 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 王莹;吴欢燕 |
地址: | 102209 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 出气管路 进气管路 控制组件 质量流量控制器 本实用新型 电位监测 气体流量 多路 混气 供气 进气口 半导体技术领域 配气管路 元件连接 进气管 气箱体 减小 连通 搭配 节约 | ||
本实用新型涉及半导体技术领域,尤其涉及一种质量流量控制器,包括进气管路、出气管路和控制组件,进气管路和/或出气管路为多条,进气管路一端为进气口,另一端与各出气管路连通,各进气管路上均设有电位监测元件,控制组件与电位监测元件连接,且控制组件控制进气管路与出气管路的气体流量。为实现多种气体先均匀混气后均匀供气的目的,可采用本实用新型设置多条进气管路和多条出气管路,控制组件控制每条进气管路及出气管路的气体流量,从而达到混气均匀和供气均匀的要求。由此本实用新型在多路进气管路和多路出气管路的搭配下,可以节约可观配气管路的设计费用,设备购置费用和减小配气箱体的空间,可以代替单独的多个普通质量流量控制器使用。
技术领域
本实用新型涉及半导体技术领域,尤其涉及一种质量流量控制器。
背景技术
在半导体行业快速发展的今天,生产芯片用的衬底材料越来越向大尺寸化发展,生产芯片的反应腔体的内部容积也越来越大,需要进入反应腔体的气体流量也是越来大,如何保证进入反应腔室的反应气流流场均匀、气体浓度均匀和气体压力均匀已经成为半导体设备生气企业越来越需要关注的重要课题。
目前大多数质量流量控制器仅有一个入口和一个出口,可以控制一种气体精确进入反应腔室物质的量或质量,当反应腔室的容积很大时,需要在反应腔室入口处设置一个非常大的匀气装置,但一个气体入口还是很难保证气体能同时均匀到达反应衬底的表面或很难保证气体能同时均匀地清除掉残留在反应衬底的表面其他反应气体。目前大腔体的进气的解决方案有两种。
方案A:是在同一个质量流量控制器后端管路上直接增加多路歧管,通过增加反应腔室的进气点,来达到匀气的目的。但每根管路的流导、管路的长短及进气位置难以完全相同,这就很难保证进气的均匀性,特别是若发现进气不均匀的现象后很难查找原因和进行修正。
方案B:同一种气体先分为多路歧管,在每路进气歧管上设置一个质量流量控制器,然后再接到反应腔体,这样可以弥补方案A的不足,实现可以分别调节各路歧管上的质量流量控制器来达到匀气目的。但此方案需要购置多台质量流量控制器,不但增加设备的成本,还要设计复杂的管路系统和控制系统。
此外,当一种气体需要和另外一种或多种气体按照比例均匀混合后再进入反应腔时就需要设置多个质量流量控制器和结构复杂混气装置,为了保证混气均匀和气流稳定,还要设计复杂的背压和过压排气管路。为了达到匀气目的,还要浪费掉不少昂贵的高纯特气。
实用新型内容
(一)要解决的技术问题
本实用新型要解决的技术问题是解决现有的质量流量控制器难以对大容积反应腔体进行均匀供气以及难以实现多种气体均匀混气和均匀供气的问题。
(二)技术方案
为了解决上述技术问题,本实用新型提供了一种质量流量控制器,包括进气管路、出气管路和控制组件,所述进气管路和/或所述出气管路为多条,所述进气管路一端为进气口,另一端与各所述出气管路连通,各所述进气管路上均设有电位监测元件,所述控制组件与所述电位监测元件连接,且所述控制组件控制所述进气管路和所述出气管路的气体流量。
其中,当所述出气管路为多条时,各所述出气管路上均设有第一控制阀,所述第一控制阀与所述控制组件连接。
其中,当所述进气管路为多条时,各所述进气管路上均设有第二控制阀,所述第二控制阀与所述控制组件连接。
其中,所述电位监测元件包括气流旁路和热感应电位差元件,所述气流旁路的两端均与所述进气管路连通,所述热感应电位差元件设置于所述气流旁路上,且与所述控制组件连接。
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