[实用新型]一种用于手机玻璃基板生产的表面镀膜装置

说明书

本实用新型公开了一种用于手机玻璃基板生产的表面镀膜装置，包括真空室，真空室的外表面上设有小多弧源和电磁控大面积弧源，真空室的竖向中心上设有柱弧源，真空室的底端设有旋转靶台，旋转靶台的左右两端均设有工件架，真空室的底端两侧分别设有真空抽气系统和送气系统，真空室底部设有中空容纳间，中空容纳间内设有伺候旋转电机，旋转靶台底部中心位置处设有柱形孔，绕柱形孔外设有导向套筒，伺候旋转电机连接有旋转杆，旋转杆穿过真空室底端铆接在柱形孔内，导向套筒与旋转杆之间通过卡箍固定，旋转靶台上设有套接孔，工件架通过若干个第一轴承安装在套接孔内，结构简单，镀膜稳定，提高真空室内各点成膜的一致性和镀膜的效率，提升了镀膜的成品率。

技术领域

本实用新型涉及玻璃基板加工技术领域，具体为一种用于手机玻璃基板生产的表面镀膜装置。

背景技术

玻璃基板在进行切割、倒角、加工等工序时会在边缘产生伤痕或裂纹，需要通过对边缘的研磨提高其机械强度。目前传统的研磨工序采用研磨刀轮对玻璃边缘进行研磨，这种研磨方式会对基板边缘产生热效应，导致研磨效果不稳定，容易出现掉片和裂纹等缺陷。传统解决方式是在研磨轮与玻璃基板的接触面喷射冷却水进行冷却，但是单方向的冷却水冲击力会使基板玻璃边缘的上下两侧研磨幅度不均匀，影响玻璃基板在后续加工和应用中的稳定性。此外，传统的研磨方式对研磨轮消耗较大，随着研磨里程增加，研磨刀轮的磨损严重，为了保证研磨效果，需要定期停机更换，影响生产节拍，费时费材料。

目前在玻璃基板加工时，需要对其表面连续镀制各种多层膜及复合化合物膜，以对玻璃基板起到保护的作用，但是在镀膜的过程中，由于旋转力度和转速的因素，导致镀膜的效率低，而且成膜不稳定，导致玻璃基板上的镀膜层不均匀，严重的降低了镀膜的成品率，并且由于只是旋转靶台的旋转，导致对旋转动力的需求大，耗费大量的电能。

发明内容

为了克服现有技术方案的不足，本实用新型提供一种用于手机玻璃基板生产的表面镀膜装置，结构简单，镀膜稳定，提高了真空室内各点成膜的一致性，间接起到玻璃基板加工时稳弧的作用，提高了镀膜的效率，提升了镀膜的成品率，节约成本，可以有效解决背景技术中的问题。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种用于手机玻璃基板生产的表面镀膜装置，包括真空室，所述真空室的内表面上设有小多弧源和电磁控大面积弧源，且在真空室的竖向中心上设有柱弧源，所述真空室的底端设有旋转靶台，所述旋转靶台的左右两端均设有工件架，在真空室的底端两侧还分别设有真空抽气系统和送气系统；

所述真空室底部设有中空容纳间，所述中空容纳间内设有伺候旋转电机，所述旋转靶台底部中心位置处设有柱形孔，绕所述柱形孔外设有导向套筒，所述伺候旋转电机连接有旋转杆，所述旋转杆穿过所述真空室底端，且旋转杆铆接在所述柱形孔内，所述导向套筒与所述旋转杆之间通过卡箍固定，所述旋转靶台上设有套接孔，所述工件架通过若干个第一轴承固定安装在所述套接孔内。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述真空室呈空腔的双层圆柱筒结构，所述真空室由双层不锈钢制作而成，所述小多弧源和电磁控大面积弧源安装在所述真空室内层外表面。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述小多弧源和电磁控大面积弧源均滚阿玉真空室的轴线对称分布，且在小多弧源和电磁控大面积弧源的外侧端部固定安装有弧源反射挡片。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述真空抽气系统和送气系统关于所述旋转靶台呈对称分布在所述旋转靶台的两侧。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述导向套筒与真空室底端连接处设有第二轴承，所述第二轴承的外圈上设有若干间隔均匀分布的C字扣，并且所述第二轴承的外圈上还设有填充防滑橡胶。