[实用新型]一种硅片抛光热处理装置

权利要求书

1.一种硅片抛光热处理装置，包括支撑座（1），其特征在于，所述支撑座（1）上端两侧安装有支撑架（11），支撑架（11）顶端安装有横架（9），横架（9）上端中部安装有抛光电机（10），抛光电机（10）下端安装有旋转轴（18），旋转轴（18）中部安装有旋转凸轮（20），旋转轴（18）底端安装有上固定座（22），上固定座（22）两端通过螺栓（26）连接有下固定座（23），下固定座（23）下端中部安装有抛光轴（25），所述支撑座（1）中部安装有调节柱（6），调节柱（6）下端中部安装有从动齿轮（3），从动齿轮（3）前端中部安装有主动齿轮（4），所述调节柱（6）上端安装有工作台（7），工作台（7）上端外侧安装有夹持装置（8），所述支撑架（11）内侧上端安装有引气腔（14），引气腔（14）内部安装有活塞（15），活塞（15）中部安装有活塞杆（16），活塞杆（16）另一端安装有接触板（19）。

2.根据权利要求1所述的一种硅片抛光热处理装置，其特征在于，所述主动齿轮（4）前端中部安装有驱动轴（5），驱动轴（5）前端安装有驱动手柄（27）。

3.根据权利要求1所述的一种硅片抛光热处理装置，其特征在于，所述引气腔（14）下端连接有喷气管（21），引气腔（14）上端通过进气管（13）连接有加热箱（12），加热箱（12）上端设有吸气管。

4.根据权利要求1所述的一种硅片抛光热处理装置，其特征在于，所述支撑座（1）下端两侧安装有支撑腿（2）。

5.根据权利要求1所述的一种硅片抛光热处理装置，其特征在于，所述接触板（19）与引气腔（14）之间的活塞杆（16）外侧设有缓冲弹簧（17）。

6.根据权利要求1所述的一种硅片抛光热处理装置，其特征在于，所述抛光轴（25）下端安装有抛光轮（24），抛光轮（24）下端均匀设有凸点。