[实用新型]一种硅片抛光热处理装置

说明书

本实用新型公开了一种硅片抛光热处理装置，包括支撑座，支撑座上端两侧安装有支撑架，支撑架顶端安装有横架，横架上端中部安装有抛光电机，抛光电机下端安装有旋转轴，旋转轴中部安装有旋转凸轮，旋转轴底端安装有上固定座，上固定座两端通过螺栓连接有下固定座，下固定座下端中部安装有抛光轴，支撑座中部安装有调节柱，调节柱下端中部安装有从动齿轮，从动齿轮前端中部安装有主动齿轮，调节柱上端安装有工作台，支撑架内侧上端安装有引气腔，引气腔内部安装有活塞。本实用新型，实现抛光轴在抛光的同时还可以对硅片进行热处理，既降低着工人额外安装有热处理装置的工作强度，同时也增加着热处理工艺与抛光工艺之间的适配性，实用性强。

技术领域

本实用新型涉及硅片加工设备技术领域，具体是一种硅片抛光热处理装置。

背景技术

硅片，是制作集成电路的重要材料，通过对硅片进行光刻、离子注入等手段，可以制成各种半导体器件。用硅片制成的芯片有着惊人的运算能力。科学技术的发展不断推动着半导体的发展。自动化和计算机等技术发展，使硅片（集成电路）这种高技术产品的造价已降到十分低廉的程度。这使得硅片已广泛应用于航空航天、工业、农业和国防，甚至悄悄进入每一个家庭。

现有的硅片在抛光处理过程中，需要对其进行热处理，但是现有的硅片抛光和热处理装置是分开的，在使用时，需要将热处理装置额外的装载在抛光装置上，这不仅额外的增加着工作强度，同时也无法使得热处理装置很好的与原来的抛光装置进行很好的适配，实用性差。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种硅片抛光热处理装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种硅片抛光热处理装置，包括支撑座，所述支撑座上端两侧安装有支撑架，支撑架顶端安装有横架，横架上端中部安装有抛光电机，抛光电机下端安装有旋转轴，旋转轴中部安装有旋转凸轮，旋转轴底端安装有上固定座，上固定座两端通过螺栓连接有下固定座，下固定座下端中部安装有抛光轴，所述支撑座中部安装有调节柱，调节柱下端中部安装有从动齿轮，从动齿轮前端中部安装有主动齿轮，所述调节柱上端安装有工作台，工作台上端外侧安装有夹持装置，所述支撑架内侧上端安装有引气腔，引气腔内部安装有活塞，活塞中部安装有活塞杆，活塞杆另一端安装有接触板。

作为本实用新型进一步的方案：所述主动齿轮前端中部安装有驱动轴，驱动轴前端安装有驱动手柄。

作为本实用新型进一步的方案：所述引气腔下端连接有喷气管，引气腔上端通过进气管连接有加热箱，加热箱上端设有吸气管。

作为本实用新型进一步的方案：所述支撑座下端两侧安装有支撑腿。

作为本实用新型进一步的方案：所述接触板与引气腔之间的活塞杆外侧设有缓冲弹簧。

作为本实用新型再进一步的方案：所述抛光轴下端安装有抛光轮，抛光轮下端均匀设有凸点。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

所述一种硅片抛光热处理装置，结构合理，设计新颖，通过设有的引气腔与旋转凸轮之间的相互配合，实现抛光轴在抛光的同时还可以对硅片进行热处理，既降低着工人额外安装有热处理装置的工作强度，同时也增加着热处理工艺与抛光工艺之间的适配性，实用性强。

附图说明

图1为一种硅片抛光热处理装置的结构示意图。

图2为一种硅片抛光热处理装置中主动齿轮与从动齿轮的配合侧视结构示意图。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。