[实用新型]全自动镀膜机有效
申请号: | 201721804721.3 | 申请日: | 2017-12-21 |
公开(公告)号: | CN207596955U | 公开(公告)日: | 2018-07-10 |
发明(设计)人: | 施栓林 | 申请(专利权)人: | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/35 |
代理公司: | 北京维澳专利代理有限公司 11252 | 代理人: | 王立民;解立艳 |
地址: | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀膜设备 上片 下片 全自动镀膜机 本实用新型 回传装置 全自动化生产 传送带 有效解决 自动上片 出口端 基板架 进口端 回传 伸入 卸片 贯穿 改造 | ||
本实用新型公开了一种全自动镀膜机,包括上片设备(7)、回传装置(17)和下片设备(18),所述上片设备(7)与镀膜设备(3)的进口端连接,所述下片设备(18)与所述镀膜设备(3)的出口端连接,传送带(4)贯穿于所述镀膜设备(3),且其两端分别伸入所述上片设备(7)和所述下片设备(18)内,所述回传装置(17)设于所述镀膜设备(3)的下方,其两端分别位于所述上片设备(7)和所述下片设备(18)内。本实用新型能够实现自动上片、自动卸片和基板架自动回传的功能,实现全自动化生产,且可以有效利用现有空间,有效解决已投产镀膜设备的改造问题。
技术领域
本实用新型涉及一种镀膜机,具体涉及一种全自动镀膜机。
背景技术
在光伏行业里所用生产型磁控溅射沉积设备主要分为卧式磁控溅射镀膜机和立式磁控溅射镀膜机两种,主要以卧式为首,其主要优点是整体膜层均匀性好,缺点是占地空间大;针对于陶瓷靶材,在制程过程中靶材掉渣现象不可避免,玻璃膜层边缘容易出现打火现象,严重影响成膜质量,为避免打火现象的发生,需要附加基板架对玻璃边缘进行遮挡来解决,而添加基板架的同时需要加设回传系统以实现自动化控制,但因厂区空间有限,无法外设基板架回传系统和能否实现自动化成了难题。
为解决上述问题,现有的处理方法是,在卧式磁控溅射镀膜机的进口端和出口端设置缓存室,其主要的回传系统在卧式磁控溅射镀膜机的侧面,由于这种设计占地面积非常大,因此需要提前预留空间,对于已投产设备无法实现。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种全自动镀膜机,以解决现有技术中的技术问题,它能够实现自动上片、自动卸片和基板架自动回传的功能,实现全自动化生产,且可以有效利用现有空间,有效解决已投产镀膜设备的改造问题。
本实用新型提供了一种全自动镀膜机,包括上片设备、回传装置和下片设备,所述上片设备与镀膜设备的进口端连接,所述下片设备与所述镀膜设备的出口端连接,传送带贯穿于所述镀膜设备,且其两端分别伸入所述上片设备和所述下片设备内,所述回传装置设于所述镀膜设备的下方,其两端分别位于所述上片设备和所述下片设备内。
一种可选的实施方式中,所述回传装置包括基板架传送装置和基板架升降装置,所述基板架传送装置设置在所述镀膜设备的正下方,所述基板架传送装置的两端分别设有一个所述基板架升降装置,当所述基板架升降装置升起后与所述传送带连接。
一种可选的实施方式中,所述基板架传送装置为皮带机。
一种可选的实施方式中,所述基板架传送装置包括第一回传主体和支撑腿,所述支撑腿固定设置在所述第一回传主体的底部;所述基板架升降装置包括第二回传主体和升降装置,所述升降装置设置在所述第二回传主体的底部。
一种可选的实施方式中,所述第一回传主体与所述第二回传主体的结构相同,均包括架体、传送轮、转轴和驱动电机,所述架体的两侧设有安装槽,两个所述安装槽内均设有所述传送轮,其中一个所述安装槽内的所述传送轮通过所述转轴与另一个所述安装槽内的所述传送轮连接,任意相邻两根所述转轴通过皮带连接,所述驱动电机固定安装在所述架体上,其输出轴与其中一根所述转轴连接。
一种可选的实施方式中,所述传送轮为槽轮,基板架的底部设有两根平形布置的导杆,两根所述导杆分别与两个所述安装槽内的所述槽轮配合。
一种可选的实施方式中,所述升降装置为液压缸或气缸或电动推拉杆。
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