[实用新型]一种耐弯折多层透明导电薄膜有效

专利信息
申请号: 201721826444.6 申请日: 2017-12-25
公开(公告)号: CN207637513U 公开(公告)日: 2018-07-20
发明(设计)人: 杨勇;姚婷婷;金克武;李刚;沈洪雪;彭赛奥;汤永康;金良茂;甘治平;马立云 申请(专利权)人: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
主分类号: H01B5/14 分类号: H01B5/14;H01B1/08
代理公司: 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 代理人: 陈俊
地址: 233010 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 金属层 多层透明导电薄膜 半球形凹坑 耐弯折 膜系 矩形阵列分布 导电性 本实用新型 导电作用 基底顶面 节约材料 耐弯折性 透过率 顶面 基底
【权利要求书】:

1.一种耐弯折多层透明导电薄膜,包括基底,其特征在于,所述基底顶面由下至上依次设有下TCO膜层、金属层与上TCO膜层;所述金属层顶面设有一组半球形凹坑,半球形凹坑呈矩形阵列分布。

2.根据权利要求1所述的一种耐弯折多层透明导电薄膜,其特征在于,所述半球形凹坑的直径为2~10µm。

3.根据权利要求1或2所述的一种耐弯折多层透明导电薄膜,其特征在于,所述金属层采用镍、铝、银或金。

4.根据权利要求1或2所述的一种耐弯折多层透明导电薄膜,其特征在于,所述上TCO膜层与下TCO膜层为ITO薄膜、AZO薄膜或FTO薄膜。

5.根据权利要求1或2所述的一种耐弯折多层透明导电薄膜,其特征在于,相邻两个半球形凹坑的间距为200~600nm。

6.根据权利要求1或2所述的一种耐弯折多层透明导电薄膜,其特征在于,所述金属层底面至顶面最高点的厚度为20~40nm。

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