[发明专利]绝缘栅型半导体装置以及绝缘栅型半导体装置的制造方法有效

专利信息
申请号: 201780002996.1 申请日: 2017-03-23
公开(公告)号: CN108028646B 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 增田晋一;吉渡新一;吉田健一;石田裕司 申请(专利权)人: 富士电机株式会社
主分类号: H03K17/567 分类号: H03K17/567;H01L29/739;H01L29/78;H02M1/08
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 绝缘 半导体 装置 以及 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种绝缘栅型半导体装置,其特征在于,具备:

绝缘栅型半导体元件,其包括具备第一主电极区和第二主电极区的半导体芯片;

绝缘电路基板,其搭载所述半导体芯片,在该绝缘电路基板的周边具有第一外部端子和第二外部端子;

主电流路径构件,其在所述绝缘电路基板上被图案化为俯视图案具有呈直线状延伸的部分,被设置为将所述第一外部端子与所述第一主电极区之间连接,而不连接至所述第二主电极区,在该主电流路径构件中,所述绝缘栅型半导体元件的主电流朝向所述第一外部端子流动;以及

栅极电流路径构件,其在所述绝缘电路基板上被图案化为俯视图案具有与所述主电流路径构件的呈直线状延伸的部分平行地配置的呈直线状延伸的部分,被设置为将所述第二外部端子与所述绝缘栅型半导体元件的栅极电极之间连接,在该栅极电流路径构件的平行地配置的所述部分,对所述主电流进行控制的栅极电流朝向与所述主电流相反的方向流动,

其中,通过因所述主电流所生成的磁场的变化而产生的互感来在所述栅极电流路径构件中产生的电流用于增大所述绝缘栅型半导体元件导通时的所述栅极电流。

2.根据权利要求1所述的绝缘栅型半导体装置,其特征在于,

所述栅极电流路径构件和所述主电流路径构件是相邻地设置的。

3.根据权利要求1或2所述的绝缘栅型半导体装置,其特征在于,

在所述栅极电流路径构件的与所述主电流路径构件相反的一侧还设置有辅助主电流路径构件。

4.一种绝缘栅型半导体装置的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:

准备包括具备第一主电极区和第二主电极区的半导体芯片的绝缘栅型半导体元件;

在绝缘电路基板上,将主电流路径构件和栅极电流路径构件进行图案化,所述主电流路径构件的俯视图案具有呈直线状延伸的部分,所述栅极电流路径构件的俯视图案具有与所述主电流路径构件的呈直线状延伸的部分平行地配置的呈直线状延伸的部分;

将所述半导体芯片搭载在绝缘电路基板上;

将所述主电流路径构件与所述绝缘栅型半导体元件的所述第一主电极区之间进行连接,而不将所述主电流路径构件连接至所述第二主电极区;以及

以使对所述绝缘栅型半导体元件的主电流进行控制的栅极电流朝向与所述主电流相反的方向流动的方式,将所述栅极电流路径构件与所述绝缘栅型半导体元件的栅极电极之间进行连接。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士电机株式会社,未经富士电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780002996.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top