[发明专利]等离子电极以及等离子处理装置有效
申请号: | 201780004093.7 | 申请日: | 2017-03-07 |
公开(公告)号: | CN108293292B | 公开(公告)日: | 2020-08-18 |
发明(设计)人: | 森嶋雅人;岩渕胜彦;布濑晓志;藤本円华;西出大亮 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46;C23C16/509;H01L21/31;H01L21/316;H01L21/312 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 李洋;舒艳君 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子 电极 以及 处理 装置 | ||
等离子电极(30)具备中间电极板(60)、接地板(40)以及被配置在中间电极板(60)与接地板(40)之间的中间绝缘板(50)。中间电极板(60)的凸部(61)被配置于接地板(40)的贯通孔(42)以及中间绝缘板(50)的贯通孔(52)的内侧。被设置在凸部(61)的中心轴的贯通孔(62)或者被设置在贯通孔(42)的周围的贯通孔(41)的任意一方将第一处理气体向接地板(40)的下方排出。贯通孔(62)或者贯通孔(41)的任意另一方排出接地板(40)的下方的气体。凸部(61)的周围的第二流路对凸部(61)的外侧壁与贯通孔(42)的内侧壁之间的间隙供给经由第一流路(68)所供给的第二处理气体。供给到该间隙的第二处理气体通过施加到中间电极板(60)的高频电力而在该间隙内被等离子化。
技术领域
本发明的各个方面以及实施方式涉及等离子电极以及等离子处理装置。
背景技术
由于便携信息设备等显示器中所使用的钢化玻璃容易划伤,所以在表面涂布防污膜。然而,由于钢化玻璃和防污膜紧贴性较差,所以为了提高防污膜与钢化玻璃的紧贴性,在钢化玻璃形成SiO2膜等基底膜,并在其上形成防污膜。对于SiO2膜,例如能够利用使用了ICP(Inductively Coupled Plasma:电感耦合等离子体)的等离子CVD(Chemical VaporDeposition:化学气相沉积)装置等在钢化玻璃上进行成膜。
专利文献1:日本特开2008-75182号公报
然而,在触摸面板式的显示器的情况下,防污膜因物理摩擦等损伤而容易剥离。因此,对于防污膜,要求提高对物理损伤的耐久性。
发明内容
本发明的一个方面是等离子电极,具备:第一电极板,具有圆筒形状的多个凸部并被施加高频电力;接地板,设置有具有比凸部的外径大的内径的圆筒形状的多个第一贯通孔;以及绝缘板,设置具有比凸部的外径大的内径的圆筒形状的多个第二贯通孔,并被配置于第一电极板与接地板之间。第一电极板、绝缘板以及接地板以将凸部配置于第一贯通孔以及第二贯通孔的内侧的方式重叠配置。在凸部沿着中心轴设置有第三贯通孔。在第一电极板与绝缘板之间设置有第一流路。在凸部的周围设置有与第一流路连通的第二流路。在接地板中,在各个第一贯通孔的周围设置有第四贯通孔。第三贯通孔或者第四贯通孔的任意一方将第一处理气体向接地板的下方排出。第三贯通孔或者第四贯通孔的任意另一方排出接地板的下方的气体。第二流路与形成在凸部的外侧壁与第一贯通孔的内侧壁之间的间隙连通,对该间隙供给经由第一流路所供给的第二处理气体。供给到该间隙的第二处理气体通过施加到第一电极板的高频电力而在该间隙内被等离子化。
根据本发明的各个方面以及实施方式,由于能够形成更柔软、柔韧的基底膜,所以能够提高形成在基底膜上的防污膜对物理损伤的耐久性。
附图说明
图1是表示第一实施方式中的等离子处理装置的一个例子的剖视图。
图2是表示等离子电极的一个例子的剖视图。
图3是表示等离子电极的一个例子的放大剖视图。
图4是表示等离子电极的下表面的一个例子的图。
图5是表示等离子电极的下表面的一个例子的放大图。
图6是表示中间电极板的下表面的一个例子的图。
图7是表示中间电极板的上表面的一个例子的图。
图8是表示上部电极板的下表面的一个例子的图。
图9是表示中间电极板的凸部的周边的结构的其它例子的图。
图10是表示中间电极板的凸部的周边的结构的其它例子的图。
图11是表示等离子电极的其它例子的图。
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