[发明专利]防污性薄膜

权利要求书

1.一种防污性薄膜，其具备在表面具有凹凸构造的聚合体层，所述凹凸构造的多个凸部以可见光波长以下的间隔设置，

所述聚合体层为包含防污剂以及硬化性树脂的树脂的硬化物，且含有碳原子、氮原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，

所述防污剂包含具有氟聚醚部位的含氟单体，

所述硬化性树脂含有氮原子作为构成原子，

所述防污剂中的所述含氟单体的氟原子在所述聚合体层的表面取向，

通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在所述凹凸构造的表面为33atom％以上，

通过X射线光电子能谱法测量的氮原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在往深度方向远离所述凹凸构造的表面5～90nm的区域，至少具有一个比往深度方向远离所述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值大0.5atom％以上的极大值。

2.如权利要求1所述的防污性薄膜，其特征在于，所述防污剂还包含氮原子作为构成原子。

3.如权利要求2所述的防污性薄膜，其特征在于，往深度方向远离所述凹凸构造的表面5～90nm的区域中具有所述的极大值的区域，存在所述防污剂中的氮原子和所述硬化性树脂中的氮原子。

4.如权利要求1～3中任意一项所述的防污性薄膜，其特征在于，通过X射线光电子能谱法测量的氮原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在所述凹凸构造的表面，比所述极大值小1atom％以上。

5.如权利要求1～3中任意一项所述的防污性薄膜，其特征在于，所述硬化性树脂含有与所述防污剂相溶的相溶性单体。

6.如权利要求5所述的防污性薄膜，其特征在于，所述硬化性树脂中的所述相溶性单体的含量在5重量％以上，30重量％以下。

7.如权利要求5所述的防污性薄膜，其特征在于，所述相溶性单体包含具有酰胺基的单官能团单体。

8.如权利要求1～3中任意一项所述的防污性薄膜，其特征在于，所述含氟单体具有反应性官能团。

9.如权利要求1～3中任一项所述的防污性薄膜，其特征在于，所述氟聚醚部位由以下述一般式(B)或者(C)表示，所述一般式(B)以及(C)中，n1为1～3的整数，n2～n5为1或2，k、m、p以及s为0以上的整数。

CF_n1H_(3-n1)-(CF_n2H_(2-n2))_kO-(CF_n3H_(2-n3))_mO- (B)

-(CF_n4H_(2-n4))_pO-(CF_n5H_(2-n5))_sO- (C)

10.如权利要求8所述的防污性薄膜，其特征在于，所述含氟单体含有-OCF₂-链以及＝NCO-链中的至少一个。

11.如权利要求8所述的防污性薄膜，其特征在于，所述防污剂还包括氟类表面活性剂以及反应性单体中的至少一种。

12.如权利要求11所述的防污性薄膜，其特征在于，所述反应性单体包含含有酰胺基的单体。

13.如权利要求8所述的防污性薄膜，其特征在于，所述树脂中的所述防污剂的所述有效成分的含量为0.1重量％以上、10重量％以下。