[发明专利]防污性薄膜

说明书

本发明提供防污性优良的防污性薄膜。本发明的防污性薄膜具备在表面具有凹凸构造的聚合体层，上述凹凸构造的多个凸部以可见光波长以下的间隔设置，上述聚合体层含有碳原子、氮原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例为在上述凹凸构造的表面为33atom％以上，通过X射线光电子能谱法测量的氮原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在往深度方向远离上述凹凸构造的表面5～90nm的区域，至少具有一个比往深度方向远离上述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值大0.3atom％以上极大值。

技术领域

本发明涉及防污性薄膜。更详细地，涉及具有纳米尺寸的凹凸构造的防污性薄膜。

背景技术

对具有抗反射性的光学薄膜进行了各种研究(例如，参考专利文献1以及2)。特别是，具有纳米尺寸的凹凸构造(纳米构造)的光学薄膜具有良好的抗反射性是已知的。根据这样的凹凸构造，由于从空气层至基材折射率连续地变化，能够使反射光急剧减少。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特开2005-97371号公报

专利文献2：特许第5810528号公报

专利文献3：国际公开第2011/111741号

专利文献4：特许第5541272号公报

专利文献5：特开2015-183082号公报

专利文献6：特许第5744011号公报

发明内容

发明要解决的问题

这样的光学薄膜(抗反射薄膜)具有优良的抗反射性，另一方面，由于其表面的凹凸构造，有时当指纹(皮脂)等污物附着时，附着的污物容易扩散，进一步，擦去进入凸部之间的污物变得困难。另外，附着的污物由于其反射率与抗反射薄膜的反射率相差较大，容易被眼睛看到。因此，对于表面具有纳米尺寸的凹凸构造，且对污物具有擦去性(例如，指纹擦去性)、即，具有优良防污性的功能性薄膜(防污性薄膜)的要求在增强。

对此，本申请发明者们经过研究后发现：为了实现防污性优良的防污性薄膜，使凹凸构造表面的氟原子数的比例在规定量以上是最低限度的要求。但是，本申请发明者进一步讨论之后，即使凹凸构造表面的氟原子数的比例在规定量以上，由于凹凸构造的内部构成，防污性(擦去性)不充分。例如，在上述专利文献1以及2中，没有关于凹凸构造的内部构成的记载，在提高防污性这一点上具有改善的余地。

本发明鉴于上述现状而形成，其目的在于提供防污性优良的防污性薄膜。

解决问题的手段

为了解决上述问题，关于防污性优良的防污性薄膜进行了各种检讨之后，发现：如果构成为凹凸构造表面存在氟原子富集区域，且在其下侧存在氮原子富集区域，则防污性显著提高。根据以上情况，想到可以成功解决上述课题，达到本发明。

即，本发明一方式为具备在表面具有凹凸构造的聚合体层的防污性薄膜，所述凹凸构造的多个凸部以可见光波长以下的间隔设置，所述聚合体层含有碳原子、氮原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例为在上述凹凸构造的表面为33atom％以上，通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在往深度方向远离上述凹凸构造的表面5～90nm的区域，至少具有一个比往深度方向远离上述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值大0.3atom％以上的极大值。

发明效果

根据上述发明，能够提供防污性优良的防污性薄膜。