[发明专利]防污性薄膜

权利要求书

1.一种防污性薄膜，其具备在表面具有凹凸构造的聚合体层，所述凹凸构造为多个凸部以可见光波长以下的间隔设置，

所述聚合体层为包含脱模剂以及光硬化性树脂的树脂层的硬化物、且含有碳原子、氮原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，

所述脱模剂含有氟原子作为构成原子，

所述光硬化性树脂含有氮原子作为构成原子，

所述脱模剂中的氟原子在所述聚合体层的表面取向，通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例为在所述凹凸构造的表面为33atom％以上，往深度方向远离所述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值为3atom％以下，

通过X射线光电子能谱法测量的氮原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在往深度方向远离所述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值为4atom％以下。

2.如权利要求1所述的防污性薄膜，其特征在于，所述光硬化性树脂不含有氟原子作为构成原子。

3.如权利要求1或2所述的防污性薄膜，其特征在于，所述光硬化性树脂含有与所述脱模剂相溶的相溶性单体。

4.如权利要求3所述的防污性薄膜，其特征在于，所述光硬化性树脂中的所述相溶性单体的含量在5重量％以上、30重量％以下。

5.如权利要求3所述的防污性薄膜，其特征在于，所述相溶性单体包含具有酰胺基的单官能团单体。

6.如权利要求1或2所述的防污性薄膜，其特征在于，所述脱模剂含有氟系树脂，所述氟系树脂包括具有光反应官能团的含氟单体。

7.如权利要求6所述的防污性薄膜，其特征在于，所述含氟单体以下述一般式(A)表示，

R^f1-R²-D¹ (A)

所述一般式(A)中，R^f1表示包含从氟烷基、氟烷氧基、氟烯基、氟亚烷基以及氟氧化亚烷基组成的群中选择的至少一个的部位，R²表示亚烷基、次烷基或者由它们而来的酯构造、氨酯构造、醚构造、三嗪构造，D¹表示光反应性官能团。

8.如权利要求6所述的防污性薄膜，其特征在于，所述含氟单体以下述一般式(B)或者(C)表示，

CF_n1H_(3-n1)-(CF_n2H_(2-n2))_kO-(CF_n3H_(2-n3))_mO- (B)

-(CF_n4H_(2-n4))_pO-(CF_n5H_(2-n5))_sO- (C)

所述一般式(B)以及(C)中，n1为1～3的整数，n2～n5为1或2，k、m、p以及s为0以上的整数。

9.如权利要求6所述的防污性薄膜，其特征在于，所述含氟单体含有-OCF₂-链以及＝NCO-链中的至少一个。

10.如权利要求6所述的防污性薄膜，其特征在于，所述氟树脂含有所述含氟单体，还含有氟系表面活性剂和/或反应性单体。

11.如权利要求10所述的防污性薄膜，其特征在于，所述反应性单体包含具有酰胺基的单体。

12.如权利要求6所述的防污性薄膜，其特征在于，所述树脂层中的所述脱模剂的所述氟系树脂的含量为0.1重量％以上、10重量％以下。