[发明专利]防污性薄膜

说明书

本发明提供防污性以及耐磨性优良的防污性薄膜。本发明为具备在表面具有凹凸构造的聚合体层的防污性薄膜，所述凹凸构造为多个凸部以可见光波长以下的间隔设置，所述聚合体层含有碳原子、氮原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例为在上述凹凸构造的表面为33atom％以上，往深度方向远离上述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值为3atom％以下，通过X射线光电子能谱法测量的氮原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在往深度方向远离上述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值为4atom％以下。

技术领域

本发明涉及防污性薄膜。更具体地，涉及表面设有纳米尺寸的凹凸构造的防污性薄膜。

背景技术

具有纳米尺寸的凹凸构造(纳米构造)的光学薄膜具有良好的抗反射性是已知的。根据这样的凹凸构造，由于从空气层到基材折射率连续地变化，从而能够急剧地减少反射光。

这样的光学薄膜具有优良的抗反射性，另一方面，由于这些表面的凹凸构造，有时当指纹(皮脂)等污物附着时，附着的污物容易扩散，进一步，擦掉进入凸部之间的污物变得困难。另外，附着的污物由于其反射率与光学薄膜的反射率相差较大，容易被眼睛看到。因此，对于被赋予防水性以及防油性并具有优良防污性的光学薄膜的需求在增强。因此，提出了在凹凸构造的表面上形成以氟系材料构成的层，或者在凹凸构造中添加氟系材料的构成。(例如，参考专利文献1～3)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特开2003-172808号公报

专利文献2：特开2007-178724号公报

专利文献3：特开2014-153524号公报

发明内容

发明要解决的问题

本发明者们，发现：虽然获得了由纳米尺寸的凹凸构造带来的优良的抗反射性，但是在表现出优良的防污性方面，有必要使纳米构造的表面的氟原子数的比例多于规定量。但是，进一步的研究结果发现：在这种具有优良防污性的光学薄膜中，由于有时在薄膜面内存在凸部的强度低的位置，因而，在擦去附着于薄膜表面的污物时等，凹凸构造被破坏从而失去抗反射性或者防污性。因此，追求提高薄膜的耐磨性。

本发明鉴于上述现状而形成，其目的在于提供防污性以及耐磨性优良的防污性薄膜。

解决问题的手段

为了解决上述问题，达成目的，本发明一方式为具备在表面具有凹凸构造的聚合体层的防污性薄膜，所述凹凸构造为多个凸部以可见光波长以下的间隔设置，所述聚合体层含有碳原子、氮原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例为在上述凹凸构造的表面为33atom％以上，往深度方向远离上述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值为3atom％以下，通过X射线光电子能谱法测量的氮原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在往深度方向远离上述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值为4atom％以下。

发明效果

根据上述发明，能够提供防污性以及耐磨性优良的防污性薄膜。

附图简要说明

[图1]是表示实施方式的防污性薄膜的剖面的示意图。

[图2]是表示实施方式的防污性薄膜的设有凹凸构造的表面的示意图。

[图3]是用于说明实施方式的防污性薄膜的制造方法一的剖面示意图。