[发明专利]用于基板的真空处理的设备、用于基板的真空处理的系统、及用于在真空腔室中输送基板载具和掩模载具的方法

权利要求书

1.一种用于基板的真空处理的设备，包括：

真空腔室；

第一轨道布置，经配置以输送基板载具，且包括经配置以在所述基板的第一端支撑所述基板载具的第一部分和经配置以在与所述基板的第一端相对的所述基板的第二端支撑所述基板载具的第二部分；

第二轨道布置，经配置以输送掩模载具，且包括经配置以在掩模的第一端支撑所述掩模载具的另外第一部分和经配置以在与所述掩模的第一端相对的所述掩模的第二端支撑所述掩模载具的另外第二部分，其中在所述第一轨道布置的所述第一部分和所述第二部分之间的第一距离与在所述第二轨道布置的所述另外第一部分和所述另外第二部分之间的第二距离实质上相同；和

保持布置，经配置以将所述基板载具和所述掩模载具相对于彼此定位。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述第一轨道布置和所述第二轨道布置在第一方向上延伸，具体地其中所述第一轨道布置经配置以至少在所述第一方向上输送所述基板载具，且其中所述第二轨道布置经配置以至少在所述第一方向上输送所述掩模载具。

3.如权利要求2所述的设备，其中所述第一部分和所述另外第一部分布置于由所述第一方向与垂直于所述第一方向的另一方向所限定的第一平面中，且其中所述第二部分和所述另外第二部分布置于由所述第一方向与其他方向所限定的第二平面中。

4.如权利要求3所述的设备，其中所述第一方向为水平方向，且所述其他方向为另一水平方向或垂直方向。

5.如权利要求4所述的设备，其中所述第一距离和所述第二距离限定在垂直于所述第一方向和所述其他方向的方向上。

6.如权利要求2至5中任一项所述的设备，进一步包括经配置以在所述第一方向上非接触式移动所述基板载具和所述掩模载具的驱动结构，其中所述驱动结构包括所述第一部分和所述另外第一部分。

7.如权利要求2至6中任一项所述的设备，进一步包括经配置以在所述真空腔室中非接触式悬浮所述基板载具和所述掩模载具的引导结构，其中所述引导结构包括所述第二部分和所述另外第二部分。

8.如权利要求2至7中任一项所述的设备，其中所述保持布置经配置以在不同于所述第一方向的一方向上将所述基板载具和所述掩模载具相对于彼此定位。

9.如权利要求1至8中任一项所述的设备，其中所述保持布置被布置于所述真空腔室的顶壁和底壁中的至少一者处。

10.如权利要求1至8中任一项所述的设备，其中所述保持布置被布置于与所述第一轨道布置或所述第二轨道布置相邻的所述真空腔室的第一侧壁处。

11.如权利要求1至10中任一项所述的设备，其中所述保持布置被至少部分地布置于所述第一轨道布置与所述第二轨道布置之间。

12.如权利要求1至11中任一项所述的设备，其中所述保持布置包括用于将所述基板载具与所述掩模载具相对于彼此定位的一个或多个压电致动器。

13.一种用于基板的真空处理的系统，包括：

如权利要求1至12中任一项所述的设备；

所述基板载具；和

所述掩模载具。

14.如权利要求13所述的系统，其中所述第一轨道布置经配置以输送所述基板载具和所述掩模载具，且其中所述第二轨道布置经配置以输送所述基板载具和所述掩模载具。

15.一种用于在真空腔室中输送基板载具和掩模载具的方法，包括：

在第一轨道布置上非接触式输送所述基板载具且在第二轨道布置上非接触式输送所述掩模载具；和

在所述第二轨道布置上非接触式输送所述基板载具且在所述第一轨道布置上非接触式输送所述掩模载具。