[发明专利]用于基板的真空处理的设备、用于基板的真空处理的系统、及用于在真空腔室中输送基板载具和掩模载具的方法

说明书

本公开内容提供一种用于基板(10)的真空处理的设备(200)。设备(200)包括真空腔室、输送基板载具(120)的第一轨道布置(110)、输送掩模载具(140)的第二轨道布置(130)以及将基板载具(120)和掩模载具(140)相对于彼此定位的保持布置。第一轨道布置(110)包括经配置以在基板(10)的第一端(12)支撑基板载具(120)的第一部分和经配置以在与基板(10)的第一端(12)相对的基板(10)的第二端(14)支撑基板载具(120)的第二部分。第二轨道布置(120)包括经配置以在掩模(20)的第一端(22)支撑掩模载具(140)的另外第一部分和经配置以在与掩模(20)的第一端(22)相对的掩模(20)的第二端(24)支撑掩模载具(140)的另外第二部分。第一轨道布置(110)的第一部分和第二部分之间的第一距离(D)与第二轨道布置(130)的另外第一部分和另外第二部分之间的第二距离(D’)实质上相同。

技术领域

本公开内容的实施方式涉及一种用于基板的真空处理的设备、一种用于基板的真空处理的系统及一种用于在真空腔室中输送基板载具和掩模载具的方法。本公开内容的实施方式具体地涉及用于保持基板的载具和在有机发光二极管(OLED)装置的制造中使用的掩模。

背景技术

在基板上沉积层的技术包括例如：热蒸发、物理气相沉积(PVD)及化学气相沉积(CVD)。受涂覆的基板可用在多种应用和多个技术领域中。例如，受涂覆的基板可用于有机发光二极管(OLED)装置的领域中。OLED可用于制造电视屏幕、计算机显示器(computermonitor)、移动电话、其他手持装置及用于显示信息的类似物。OLED装置，诸如OLED显示器，可包括位于两个电极之间的一层或多层的有机材料，此两个电极均沉积在基板上。

OLED装置的功能性可依赖于有机材料的涂层厚度。此涂层厚度必须在一预定范围内。为了实现高分辨率的OLED装置，在OLED装置的制造过程中，在蒸发材料的沉积方面存在一些技术挑战。尤其，基板载具和掩模载具通过处理系统的准确且平稳的输送仍存在挑战性。此外，基板相对于掩模的精确对准(alignment)对于获得高品质的处理结果(例如用于制造高分辨率的OLED装置)是至关重要的。

鉴于上述情形，克服现有技术中的至少一些问题的新的用于基板的真空处理的载具、用于基板的真空处理的系统及用于在真空腔室中输送基板载具和掩模载具的方法是有益的。本公开内容具体地旨在提供可在真空腔室中被有效地输送的载具。

发明内容

鉴于上述内容，提供一种用于基板的真空处理的设备、一种用于基板的真空处理的系统及一种用于在真空腔室中输送基板载具和掩模载具的方法。本公开内容的另外的方面、优点及特征可从权利要求书、说明书和附图中显而易见。

根据本公开内容的一方面，提供一种用于基板的真空处理的设备。所述设备包括真空腔室、经配置以输送基板载具的第一轨道布置、经配置以输送掩模载具的第二轨道布置及经配置以将基板载具和掩模载具相对于彼此定位的保持布置。第一轨道布置包括经配置以在基板的第一端支撑基板载具的第一部分及经配置以在与基板的第一端相对的基板的第二端支撑基板载具的第二部分。第二轨道布置包括经配置以在掩模的第一端支撑掩模载具的另外第一部分及经配置以在与掩模的第一端相对的掩模的第二端支撑掩模载具的另外第二部分。在第一轨道布置的第一部分与第二部分之间的第一距离和在第二轨道布置的另外第一部分与另外第二部分之间的第二距离实质上相同。

根据本公开内容的另一方面，提供一种用于基板的真空处理的系统。所述系统包括根据本文所述的实施方式的用于基板的真空处理的设备、基板载具及掩模载具。

根据本公开内容的另一方面，提供一种用于在真空腔室中输送基板载具和掩模载具的方法。所述方法包括非接触式输送在第一轨道布置上的基板载具和在第二轨道布置上的掩模载具，并且非接触式输送在第二轨道布置上的基板载具和在第一轨道布置上的掩模载具。