[发明专利]铜箔及其制造方法、包括该铜箔的电极、包括该电极的二次电池有效

专利信息
申请号: 201780006666.X 申请日: 2017-01-13
公开(公告)号: CN108475790B 公开(公告)日: 2021-11-16
发明(设计)人: 金昇玟 申请(专利权)人: SK纳力世有限公司
主分类号: H01M4/66 分类号: H01M4/66;H01M4/131;H01M4/36;H01M10/052;C25D3/38;C25D17/02;C25D7/06
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 向勇
地址: 韩国全*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 铜箔 及其 制造 方法 包括 电极 二次 电池
【说明书】:

发明公开了一种能够保障使二次电池具有较高的容量保持率的铜箔及其制造方法、包括该铜箔的电极、包括该铜箔的二次电池。本发明的二次电池用铜箔具有第一面和该第一面相反侧的第二面,并且,当通过EBSD图像观察所述铜箔的截面时,所述第一面和第二面各自每5μm具有1至8个巨大凸起。

技术领域

本发明涉及一种铜箔及其制造方法、包括该铜箔的电极、包括该电极的二次电极。

背景技术

二次电池作为,将电能转换为化学能的形式储存,并在需要电能时通过将所述化学能转换为电能来产生电的能量转换设备的一种,在可进行再充电这点上,也被称为“充电式电池(rechargeable battery)”。

与一次性一次电池相比,二次电池在经济以及环保上具有优点,并存在有铅蓄电池、镍镉二次电池、镍氢二次电池、锂二次电池等。

锂二次电池与其他二次电池相比,相对于大小和重量能够储存相对较多的能量。因此,在注重携带性及移动性的信息通信设备的领域,优先考虑锂二次电池,并且,也作为混合动力车和电动汽车的能量储存装置,其应用范围正在不断扩大。

锂二次电池以充电和放电作为一个周期重复使用。当利用完全充电的锂二次电池来使某个设备进行工作时,为了增加所述设备的工作时间,所述锂二次电池需要具有较高的充电/放电容量。因此,为了满足需求者针对锂二次电池的充电/放电容量的不断增长的期待值(needs),需要持续进行研究。

但是,即使二次电池充分具有高的充电/放电容量,当二次电池的充电/放电容量随着重复进行充电/放电循环而会急剧降低时(即,容量保持率低或者寿命短时),消费者需要频繁地更换二次电池,据此将会导致消费者的不便和资源浪费。

发明内容

发明所要解决的问题

因此,为了能够防止由如上所述的相关技术的限制和缺点而引起的问题,本发明提供一种铜箔及其制造方法、包括该铜箔的电极、包括该电极的二次电池。

本发明的一个观点在于,提供一种能够保障具有较高的容量保持率的二次电池的铜箔。

本发明的另一观点在于,提供一种能够保障具有较高的容量保持率的二次电池的铜箔的制造方法。

本发明的又一观点在于,提供一种能够保障较高的容量保持率的二次电池的电极。

本发明的又一观点在于,提供一种具有较高的容量保持率的二次电池。

除了如上所述的本发明的观点之外,本发明的其他特征和优点将在下述中进行说明,或者,通过这种说明能够使本发明所属技术领域的普通技术人员明确理解。

解决问题的技术方案

根据如上所述的本发明的一个观点,提供一种二次电池用铜箔,其为具有第一面和该第一面相反侧的第二面的二次电池用铜箔,其包括:铜膜,其具有面向所述第一面的无光泽面和面向所述第二面的光泽面;第一铜凸起层,其位于所述铜膜的所述无光泽面上;第一保护层,其位于所述第一铜凸起层上;第二铜凸起层,其位于所述铜膜的所述光泽面上;以及第二保护层,其位于所述第二铜凸起层上,当通过电子背散射衍射(EBSD,ElectronBackscattered Diffraction)图像观察所述二次电池用铜箔的截面时,所述第一面和第二面各自每5μm具有1至8个巨大凸起(giant protuberance),其中,所述巨大凸起是从基准线凸出0.7μm以上的凸起,所述基准线经过在所述第一面或第二面或者所述第一面或第二面的附近形成的谷(valleys)和孔隙(pores)上的地点中的、从所述第一面或第二面隔开最远的地点,并且与所述第一面或第二面平行。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于SK纳力世有限公司,未经SK纳力世有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780006666.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top