[发明专利]光学层叠体的制造方法有效
申请号: | 201780006914.0 | 申请日: | 2017-01-17 |
公开(公告)号: | CN108474898B | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
发明(设计)人: | 松本大辅;寇嫘 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;B32B7/023;C09J7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 朱丹 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 层叠 制造 方法 | ||
1.一种光学层叠体的制造方法,其为至少具有保护膜、第一粘合剂层和偏振板的光学层叠体的制造方法,所述制造方法包括:
使所述保护膜、所述第一粘合剂层和所述偏振板进行贴合,制作光学层叠体的前体的工序;以及
将所述光学层叠体的前体配置在30℃以下的温度且0.2MPaG以上且0.7MPaG以下的气氛中的工序。
2.根据权利要求1所述的光学层叠体的制造方法,其中,所述光学层叠体还具有功能性膜和第二粘合剂层,
所述制造方法还包括:
使所述功能性膜与所述第二粘合剂层进行贴合的工序;以及
将所述第二粘合剂层配置在小于50℃的温度且0.2MPaG以上的气氛中的工序。
3.根据权利要求1或2所述的光学层叠体的制造方法,其中,所述光学层叠体还具有第三粘合剂层和剥离纸,
所述制造方法还包括:
使第三粘合剂层与剥离纸进行贴合的工序;以及
将所述第三粘合剂层配置在小于50℃的温度且0.2MPaG以上的气氛中的工序。
4.根据权利要求1或2所述的光学层叠体的制造方法,其中,所述光学层叠体的厚度为200μm以下。
5.根据权利要求1或2所述的光学层叠体的制造方法,其中,所述偏振板的厚度为10μm~65μm。
6.根据权利要求1或2所述的光学层叠体的制造方法,其中,所述保护膜的厚度为100μm以下。
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