[发明专利]用于在二维的、快速退火的环境中直接曝光止焊漆的直接曝光装置

权利要求书

1.一种直接曝光装置(1)，所述直接曝光装置用于直接地、优选无掩模地曝光或硬化止焊漆(5)中的期望的结构，所述直接曝光装置具有：

至少一个曝光装置(10)，所述曝光装置具有至少一个用于产生UV激光光束的UV激光光源，和

偏转装置(30)，所述偏转装置设计用于，将所述UV激光光束偏转到曝光平面(40)上，以便曝光所述止焊漆(5)中的所述期望的结构，所述期望的结构设置在所述曝光平面(40)中，

其特征在于，

所述直接曝光装置(1)具有热源装置(20)，所述热源装置设计成，使得由经过偏转的所述UV激光光束(51)和由所述热源装置(20)发射的热辐射在空间上和在时间上叠加地曝光所述曝光平面(40)中的区域(11)。

2.根据权利要求1所述的直接曝光装置，

所述直接曝光装置附加地具有用于容纳用止焊漆(50)覆层的基底(100)的容纳装置和至少一个运动装置(90，110)，所述运动装置用于在至少一个所述曝光装置(10)和所述基底(100)之间产生相对运动。

3.根据权利要求1或2所述的直接曝光装置，

其中至少一个所述曝光装置(10)具有至少两个UV激光光源，优选至少两个UV激光二极管，所述UV激光光源发射在处于350nm-450nm范围中的至少两个不同的波长的UV激光(13)。

4.根据上述权利要求中任一项所述的直接曝光装置，

其中所述热源装置(20)具有至少一个IR激光器，所述IR激光器与所述直接曝光装置(1)耦联，使得在所述曝光平面(40)中产生基本上固定的曝光面(11)，并且由所述偏转装置(30)偏转的所述UV激光光束(51)在所述曝光面(11)之内偏转。

5.根据上述权利要求中任一项所述的直接曝光装置，

所述直接曝光装置附加地具有至少一个均匀化光学装置，例如呈微透镜装置形式的均匀化光学装置，以便在所述止焊漆(5)上产生均匀的IR面辐照。

6.根据上述权利要求中任一项所述的直接曝光装置，

所述直接曝光装置附加地具有校准装置，借助所述校准装置能够调节所述IR曝光面在所述止焊漆(5)上的位置。

7.根据上述权利要求中任一项所述的直接曝光装置，

所述直接曝光装置附加地具有用于直接在所述曝光平面(40)上方、优选在所述曝光面(11)上方提供惰性气体的设备。

8.根据上述权利要求中任一项所述的直接曝光装置，

所述直接曝光装置具有耦合光学装置(50)，所述耦合光学装置设计用于，将多个UV激光光源的光组合，以便将UV激光经由所述偏转装置(30)对准到所述止焊漆(5)上。

9.一种用于直接地、优选无掩模地曝光和硬化止焊漆(5)中的期望的结构的方法，所述方法具有如下步骤：

借助曝光装置(10)产生UV激光光束，

将所述UV激光光束偏转到设置有所述止焊漆(5)的曝光平面(40)上，以便曝光所述止焊漆(5)中的所述期望的结构，

其特征在于，

将热源装置(20)的热辐射发射到所述止焊漆(5)上，其中发射的所述热辐射在空间上和在时间上与偏转到所述曝光平面(40)上的所述UV激光光束叠加，由此，经过偏转的所述UV激光光束射到所述止焊漆(5)的受到所发射的所述热辐射加热的区域上。

10.根据权利要求7所述的方法，

其中所述UV激光光束具有处于UV范围中、优选处于350nm-450nm的范围中的至少两个、优选三个不同的波长。

11.根据权利要求9或10所述的方法，

其中所述热辐射是IR光，所述IR光优选由IR激光器发射，所述IR激光器优选在所述曝光平面(40)中产生基本上几何形状固定的曝光面(11)，并且将偏转的所述UV激光光束(51)在所述曝光面(11)之内偏转。

12.根据权利要求9-11中任一项所述的方法，

其中在曝光期间，直接在所述曝光平面(40)上方存在惰性气体。