[发明专利]随后的MRI配置依赖性涡流补偿有效
申请号: | 201780007615.9 | 申请日: | 2017-01-16 |
公开(公告)号: | CN109073726B | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | J·S·范登布林克 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | G01R33/565 | 分类号: | G01R33/565 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 李光颖;王英 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 随后 mri 配置 依赖性 涡流 补偿 | ||
1.一种磁共振成像系统(10),包括:
-磁梯度线圈系统(22),其包括:
-至少一个磁梯度线圈,
-至少一个磁梯度线圈驱动器单元(48),其用于根据期望的磁共振检查模式将预定时间电流分布提供到所述至少一个磁梯度线圈,以及
-磁梯度线圈控制单元(46),其被配置用于控制所述至少一个磁梯度线圈驱动器单元(48);
所述磁梯度线圈系统(22)被配置用于生成要被叠加到所述磁共振成像系统(10)的静态磁场B0的梯度磁场;
-内部区域(44),其由距包络所述至少一个磁梯度线圈的最小虚拟圆柱体的外部表面的预定最大距离定义;
-数字数据存储单元(30),其包括能用于修改所述预定时间电流分布的多个预定参数集;
其中,所述磁共振成像系统(10)被配置用于在接收到指示所述内部区域(44)内的至少一个额外的设备(50)的存在的信息的情况下至少基于所述多个预定参数集的至少一个预定参数集来修改所述预定时间电流分布,其中,所述额外的设备(50)当暴露于所生成的梯度磁场时能够在所述额外的设备(50)的至少部分中生成涡流,
所述磁共振成像系统还包括至少一个检测模块,所述至少一个检测模块被配置用于检测所述内部区域(44)内的所述额外的设备(50)的存在,并且还被配置用于在检测到所述存在的情况下将关于所述内部区域(44)内的额外的设备(50)的所述存在的所述信息提供到所述磁共振成像系统(10)的控制单元(26、50),并且
所述至少一个检测模块被配置为确定所述内部区域(44)内的一个或多个所述额外的设备(50)的位置和取向中的至少一个。
2.根据权利要求1所述的磁共振成像系统(10),还包括人类接口设备(28),其中,关于所述内部区域(44)内的所述至少一个额外的设备(50)的存在的所述信息经由所述人类接口设备(28)被提供到所述磁共振成像系统(10)的控制单元(26、50)。
3.根据权利要求1所述的磁共振成像系统(10),其中,所述至少一个检测模块由光学相机(52)形成。
4.根据前述权利要求中的任一项所述的磁共振成像系统(10),其中,所述预定参数集中的每一个唯一地与指示所述额外的设备(50)相对于所述内部区域(44)的位置和取向中的至少一个以及所述至少一个额外的设备(50)的数据集相关。
5.一种关于通过梯度线圈系统(22)中的至少一个磁梯度线圈生成梯度磁场来操作磁共振成像系统(10)的方法,所述方法包括以下步骤:
-选择(70)要根据期望的磁共振检查模式被提供到所述至少一个磁梯度线圈的预定电流分布;
-检查(72)关于所述磁共振成像系统(10)的内部区域(44)内的额外的设备(50)的存在的信息的接收,所述内部区域由距包络所述至少一个磁梯度线圈的最小虚拟圆柱体的外部表面的预定最大距离定义;
-在所述检查的结果证明是否定的情况下将所述预定电流分布提供(74)到所述至少一个磁梯度线圈;
-在所述检查的结果证明是肯定的情况下,
-基于接收到的信息,从多个预定参数集中选择(76)预定参数集;
-通过使用选定的预定参数集来修改(78)所述预定电流分布;并且
-将经修改的电流分布提供(80)到所述至少一个磁梯度线圈,其中,检查(72)信息的接收的步骤包括检查以下中的至少一个:关于一个或多个所述额外的设备(50)相对于所述内部区域(44)的位置的信息、关于一个或多个所述额外的设备(50)相对于所述内部区域(44)的取向的信息以及指示一个或多个所述额外的设备(50)的类型和性质中的至少一个的信息。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皇家飞利浦有限公司,未经皇家飞利浦有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780007615.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。