[发明专利]黑化镀液和导电性基板的制造方法在审
| 申请号： | 201780008286.X | 申请日： | 2017-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN108699714A | 公开（公告）日： | 2018-10-23 |
| 发明（设计）人： | 下地匠;志贺大树 | 申请（专利权）人： | 住友金属矿山株式会社 |
| 主分类号： | C25D3/56 | 分类号： | C25D3/56;B32B15/08;C25D5/56 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 钟晶;钟海胜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 镀液 黑化 碱金属氢氧化物 导电性基板 镍离子 铜离子 制造 | ||
【权利要求书】：
1.一种黑化镀液，其包括：
镍离子、铜离子及pH调整剂，
其中，所述pH调整剂为碱金属氢氧化物。
2.根据权利要求1所述的黑化镀液，其中，
所述pH调整剂为从氢氧化钠和氢氧化钾中选出的一种以上。
3.根据权利要求1或2所述的黑化镀液，其中，
pH值为4.0以上且5.2以下，镍离子浓度为2.0g/l以上且20.0g/l以下，铜离子浓度为0.005g/l以上且1.02g/l以下。
4.一种导电性基板的制造方法，其具有：
铜层形成步骤，在透明基材的至少一个表面上形成铜层；及
黑化层形成步骤，在所述铜层上使用权利要求1至3中的任一项所述的黑化镀液形成黑化层。
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