[发明专利]阴图制版平版印版前体和方法

权利要求书

1.对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其包含：

具有亲水表面的衬底，和

对红外辐射敏感的可成像层，其布置在所述衬底的所述亲水表面上，并包含：

一种或更多种可自由基聚合的化合物；

一种或更多种红外辐射吸收剂；

引发剂组合物，其在所述对红外辐射敏感的可成像层暴露于红外辐射时提供自由基，所述引发剂组合物包含由以下结构(I)代表的化合物A和统称为化合物B的一种或更多种由以下结构(II)或结构(III)代表的化合物；以及

主要聚合物粘合剂，

其中：

R₁、R₂、R₃、R₄、R₅和R₆独立为各自具有2～9个碳原子的取代或未取代的烷基或取代或未取代的烷氧基；

R₃和R₄至少之一不同于R₁或R₂；

R₁和R₂中的碳原子总数与R₃和R₄中的碳原子总数之间的差异为0～4；

R₁和R₂中的碳原子总数与R₅和R₆中的碳原子总数之间的差异为0～4；以及

X₁、X₂和X₃为相同或不同的阴离子。

2.如权利要求1所述的对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其中化合物B包括由结构(III)代表的化合物，R₁与R₅相同，且R₂与R₆相同。

3.如权利要求2所述的对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其中R₁与R₂相同。

4.如权利要求1所述的对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其中化合物B包括由结构(II)代表的化合物，R₁与R₂相同，且R₃与R₄相同。

5.如权利要求4所述的对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其中R₁与R₃之间的碳原子数的差异为0、1或2。

6.如权利要求1所述的对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其中R₁、R₂、R₃、R₄、R₅和R₆独立为取代或未取代的烷基。

7.如权利要求1所述的对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其中R₁、R₂、R₃、R₄、R₅和R₆各自独立地具有3～6个碳原子。

8.如权利要求1所述的对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其中化合物A与化合物B的摩尔比为从10:90至且包括90:10。

9.如权利要求1所述的对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其中基于所述对红外辐射敏感的可成像层的总干重计，化合物A与化合物B二者的总和为至少5重量％且至多并包括18重量％。

10.如权利要求1所述的对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其中X₁、X₂和X₃至少之一是包含相同或不同的芳基的四芳基硼酸根阴离子。