[发明专利]阴图制版平版印版前体和方法有效

专利信息
申请号: 201780008918.2 申请日: 2017-01-12
公开(公告)号: CN108602344B 公开(公告)日: 2021-01-08
发明(设计)人: 林浩司;J.R.马茨;石井里志;关口孔明;神谷昌道 申请(专利权)人: 伊斯曼柯达公司
主分类号: B41C1/10 分类号: B41C1/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张萍;周李军
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 制版 平版 印版前体 方法
【说明书】:

可使对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体成像并在机显影,以提供平版印版。此类前体具有引发剂组合物,该组合物含有结构(I)的化合物A和统称为化合物B的一种或更多种结构(II)或结构(III)的化合物:,其中R1、R2、R3、R4、R5和R6独立为各自具有2~9个碳原子的烷基或烷氧基;R3和R4至少之一不同于R1或R2;R1和R2中的碳原子总数与R3和R4中的碳原子总数之间的差异为0~4;R1和R2中的碳原子总数与R5和R6中的碳原子总数之间的差异为0~4;且X1、X2和X3为相同的或不同的阴离子。

发明领域

本发明涉及对红外辐射敏感且可通过红外辐射成像的阴图制版平版印版前体。该前体包含可成像层,所述可成像层在引发剂组合物中包含两种或更多种不同的碘鎓盐的独特组合。在成像曝光之后,或者可使用合适的显影剂来将该前体脱机(off-press)冲洗(显影),或者可使用平版印刷油墨和/或润版液来将该前体在机(on-press)冲洗(显影)。

发明背景

在平版印刷中,在亲水表面上生成油墨接受区域(称为图像区)。当用水润湿表面且施加平版印刷油墨时,亲水区域保留水并排斥平版印刷油墨,平版印刷油墨接受区域接受平版印刷油墨并排斥水。平版印刷油墨被转移到欲在其上复制图像的材料的表面。

有用于制备平版印版的可成像元件(平版印版前体)典型地包含布置在衬底的亲水表面之上的一个或更多个对辐射敏感的可成像层。此类对辐射敏感的可成像层包括一种或更多种对辐射敏感的组分,所述组分可分散于合适的粘合剂中或自身充当粘合剂。在将可成像元件成像暴露于合适的辐射以形成曝光区域和未曝光区域之后,通过合适的显影剂去除可成像层(一个或更多个)的曝光区域或未曝光区域,显露出底下的衬底的亲水表面。如果去除曝光区域,则认为可成像元件是阳图制版的。反之,如果去除未曝光区域,则认为可成像元件是阴图制版的。在每种情况中,剩余的可成像层的区域(其没有被显影剂去除)是油墨接受区域,并且通过显影处理显露出的亲水表面的区域接受水或水溶液 (典型为润版液),并且排斥油墨。

直接数字成像或热成像由于其对环境光的稳定性而已在印刷工业中变得越来越重要。可使用热头(更通常为红外激光二极管)来将用于制备对红外辐射敏感的平版印版的平版印版前体曝光,其响应来自计算机印版记录机中图像的数字拷贝的信号而成像。这种“计算机直接制版(computer-to-plate)”技术已经普遍替代其中使用蒙版用软片使前体成像的先前技术。

阴图制版平版印版前体中使用的对红外辐射敏感的可光聚合的组合物典型包含可聚合的化合物、一种或更多种红外辐射吸收剂、一种或更多种自由基引发剂和粘合剂聚合物。在此类前体所要求的各种有用的自由基引发剂之中,二芳基碘鎓盐处于最有效之列。近年来,平版印刷工业中对于简化印版制造工艺 (包括省略预显影加热步骤(预热))存在着需求。对使用平版印刷油墨和/或润版液提供在机显影(“DOP”),以去除曝光的平版印版前体上的不需要的可成像层材料也存在着需求。

由于印刷机污染的潜在风险,设计用于DOP应用的平版印版前体通常没有氧屏障层(其在其它前体中是常见的)或者如果存在此类氧屏障层,则该层处于低覆盖率。此类前体设计要求特殊的自由基引发剂以及在可光聚合的组合物中的高的引发剂浓度,所述特殊的自由基引发剂例如具有四苯基硼酸根阴离子的二芳基碘鎓盐(如显示于例如Knight等的美国专利申请公开2006/0269873 中),其甚至比常规的二芳基碘鎓盐更有效。

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