[发明专利]用于涂覆柔性基板的沉积设备

说明书

描述一种用于使用层堆叠涂覆柔性基板(10)的沉积设备(100)。所述沉积设备包含：第一卷筒腔室(110)，容纳用于提供柔性基板的存储卷筒；沉积腔室(120)，布置在第一卷筒腔室的下游，并且包含用于引导柔性基板经过多个沉积单元(121)的涂布滚筒(122)；第二卷筒腔室，布置在沉积腔室(120)的下游，并且容纳卷绕卷筒，用于在沉积后在卷绕卷筒上卷绕柔性基板；和辊组件，经构造以沿着部分凸起和部分凹陷的基板输送路径将柔性基板(10)从第一卷筒腔室输送到第二卷筒腔室。此外，描述一种用于涂覆柔性基板的方法，特别是使用所描述的沉积设备涂覆柔性基板的方法。

技术领域

本公开内容的实施方式涉及薄膜沉积设备和方法，具体来说涉及用于使用薄层堆叠涂覆柔性基板的设备和方法，具体来说是用于卷对卷(roll-to-roll；R2R)沉积系统中。一些实施方式涉及用于使用层堆叠分别涂覆柔性基板的一个或两个主表面的设备和方法，诸如用于薄膜太阳能电池生产、薄膜电池生产和柔性显示器生产。进一步的实施方式涉及用于对准薄膜沉积设备的方法

背景技术

在封装产业、半导体产业和其他产业中，对柔性基板(诸如塑料膜或箔)的处理是处于高需求的。工艺可包括用诸如金属、半导体和电介质材料的材料涂覆柔性基板，在基板上进行的蚀刻和其他工艺操作以用于各种应用。执行所述任务的系统通常包括涂布滚筒(例如，圆柱辊(roller))，所述涂布滚筒耦接到具有用于输送基板的辊组件的处理系统，并且在涂布滚筒上涂覆基板的至少一部分。卷对卷涂覆系统可提供高产量。

其中，诸如化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition；CVD)工艺或物理气相沉积(Physical Vapor Deposition；PVD)工艺(特别是溅射工艺)的涂覆工艺可用于将薄层沉积到柔性基板上。卷对卷沉积系统可理解为，具有相当长的长度(诸如一千米或更长)的柔性基板从存储卷筒上展开，使用薄层堆叠涂覆，并再次在卷绕卷筒上卷起。在薄膜电池的制造中以及在显示器产业和光伏(photovoltaic；PV)产业中，对卷对卷沉积系统的需求也在增加。例如，触控面板元件、柔性显示器和柔性PV模块导致对在R2R涂布机中沉积适当层的需求的增加。

在一些应用中，可在柔性基板的第一主表面上沉积具有两层或更多层的层堆叠。有时，可在与第一主表面相对的柔性基板的第二主表面上沉积第二层堆叠。当要在两个侧面上涂覆基板时，应谨慎设计和操作涂布滚筒，以避免在涂覆第二主表面期间损伤基板的第一已涂覆表面。

鉴于上述，提供了一种用于使用层堆叠涂覆柔性基板的一个或两个主表面的沉积设备，其中所述层具有高均匀性和低每单位表面积缺陷数，从而克服了本领域中的至少一些问题。

发明内容

鉴于上述，提供了根据独立权利要求的一种用于涂覆柔性基板的沉积设备，一种涂覆柔性基板的方法，以及一种对准沉积设备的方法。进一步构思、优势和特征显见于从属权利要求、说明书和附图中。

根据本文所描述的实施方式，提供一种用于涂覆柔性基板的沉积设备。所述沉积设备包括：第一卷筒(spool)腔室，容纳用于提供柔性基板的存储卷筒；沉积腔室，布置在第一卷筒腔室的下游，并且包括用于引导柔性基板经过多个沉积单元的涂布滚筒(drum)；第二卷筒腔室，布置在沉积腔室的下游，并且容纳卷绕卷筒，用于在沉积后在所述卷绕卷筒上卷绕柔性基板；和辊组件，经构造以沿着部分凸起和部分凹陷的基板输送路径将柔性基板从第一卷筒腔室输送到第二卷筒腔室。

根据本文所描述的另一个方法，描述了一种使用层堆叠涂覆柔性基板(特别是使用本文所描述的沉积设备)的方法，其中柔性基板沿着部分凸起和部分凹陷的基板输送路径从第一卷筒腔室被输送到第二卷筒腔室。所述方法包括：从第一卷筒腔室中提供的存储卷筒展开柔性基板；在柔性基板被沉积腔室中提供的涂布滚筒引导的同时，在柔性基板的第一主表面上沉积层堆叠的至少一个第一层；以及在沉积后，在第二卷筒腔室中提供的卷绕卷筒上卷绕柔性基板。