[发明专利]光学相位差构件、具备光学相位差构件的复合光学构件、及光学相位差构件的制造方法

权利要求书

1.一种光学相位差构件，其特征在于，其具备：

透明基体，其具有凹凸图案；

相位差调整层，其形成于所述凹凸图案的凹部及凸部的表面；

被覆层，其被覆所述相位差调整层；

间隙部，其划分于所述凹凸图案的所述凸部间，该凹凸图案形成了所述相位差调整层及所述被覆层；及

密闭层，其是以将所述凹凸图案的所述凸部的顶部连结且将所述间隙部密闭的方式设置于所述凹凸图案的上部；

所述凸部的折射率n₁、所述相位差调整层的折射率n₂、所述被覆层的折射率n₃满足n₁＜n₂＜n₃，且满足0.8√(n₁·n₃)≦n₂≦1.05√(n₁·n₃)。

2.如权利要求1所述的光学相位差构件，其特征在于，所述相位差调整层的厚度在10～200nm的范围内。

3.如权利要求1所述的光学相位差构件，其特征在于，所述凹凸图案的所述凸部的剖面为大致梯形状。

4.如权利要求1所述的光学相位差构件，其特征在于，所述间隙部具有所述凹凸图案的所述凸部的高度以上的高度。

5.如权利要求1所述的光学相位差构件，其特征在于，所述相位差调整层由ZnO、BaO、MgO、TiO₂、或Nb₂O₅、或者所述的混合物所构成。

6.如权利要求1所述的光学相位差构件，其特征在于，所述被覆层及所述密闭层由金属、金属氧化物、金属氮化物、金属硫化物、金属氮氧化物或金属卤化物所构成。

7.如权利要求1所述的光学相位差构件，其特征在于，构成所述凹凸图案的材料为光硬化性树脂或热硬化性树脂。

8.如权利要求1所述的光学相位差构件，其特征在于，构成所述凹凸图案的材料为溶胶凝胶材料。

9.如权利要求1至8中任一权利要求所述的光学相位差构件，其特征在于，于所述间隙部中存在空气。

10.一种复合光学构件，其特征在于，其具备：

权利要求1所述的光学相位差构件；及

偏光板，其贴附于所述透明基体的形成了所述凹凸图案的面的相反侧的面、或所述密闭层。

11.一种显示装置，其特征在于，其具备：

权利要求10所述的复合光学构件；及

显示元件，其贴附于所述透明基体的形成了所述凹凸图案的面的相反侧的面、或所述密闭层。

12.一种光学相位差构件的制造方法，其特征在于，其具有以下步骤：

准备具有凹凸图案的透明基体；

形成相位差调整层，该相位差调整层被覆所述凹凸图案的凹部及凸部的表面；

形成被覆所述相位差调整层的被覆层；及

以将形成了所述相位差调整层及所述被覆层的所述凹凸图案的邻接的凸部连结且将划分于所述凸部间的间隙部密闭的方式，于所述凹凸图案上形成密闭层；

所述凸部的折射率n₁、所述相位差调整层的折射率n₂、所述被覆层的折射率n₃满足n₁＜n₂＜n₃，且满足0.8√(n₁·n₃)≦n₂≦1.05√(n₁·n₃)。

13.如权利要求12所述的光学相位差构件的制造方法，其特征在于，于所述相位差调整层形成步骤、所述被覆层形成步骤及所述密闭层形成步骤中，通过溅射、CVD或蒸镀形成所述相位差调整层、所述被覆层及所述密闭层。