[发明专利]陶瓷烧结体的制造方法、以及陶瓷成型体的制造方法和制造装置

权利要求书

1.一种烧结用陶瓷的烧结方法，其特征在于，通过在由烧结用陶瓷形成的物品的表面吹送石墨粉末而形成厚度为100nm～10μm的包含石墨的层，接着，对所得层叠物中的含所述石墨粉末的层的表面照射输出功率为50～2000W/cm²的激光。

2.根据权利要求1所述的烧结方法，其中，所述烧结用陶瓷包含选自氧化物、氮化物和氮氧化物中的至少1种。

3.一种具有烧结部的物品的制造方法，其特征在于，依次具备：通过在具备由烧结用陶瓷形成的非烧结部的物品的该非烧结部的表面吹送石墨粉末而形成厚度为100nm～10μm的包含石墨的层的工序；和，对所得层叠物中的含所述石墨粉末的层的表面照射输出功率为50～2000W/cm²的激光，使位于照射部的基底侧的烧结用陶瓷烧结的工序。

4.根据权利要求3所述的制造方法，其中，所述烧结用陶瓷包含选自氧化物、氮化物和氮氧化物中的至少1种。

5.一种具有三维立体结构的烧结部的物品的制造方法，其特征在于，依次进行第1工序和第2工序，然后具备第3工序，在该第3工序后，重复进行所述第1工序和所述第2工序，

所述第1工序通过在具备由烧结用陶瓷形成的非烧结部的物品的该非烧结部的表面吹送石墨粉末而形成厚度为100nm～10μm的包含石墨的层，

所述第2工序对所得层叠物中的含所述石墨粉末的层的表面照射输出功率为50～2000W/cm²的激光，使位于照射部的基底侧的烧结用陶瓷烧结，

所述第3工序在烧结部的表面形成由烧结用陶瓷形成的非烧结部。

6.根据权利要求5所述的制造方法，其中，所述第2工序中，在将所述层叠物固定的状态下，边使所述激光扫描边进行照射、或边借助光扩散透镜使光路变化边进行照射；或者，边使所述层叠物移动边对其照射固定光路的所述激光。

7.根据权利要求5或6所述的制造方法，其中，所述第3工序中，在加热了包含所述烧结部的所述物品的状态下，将含有所述烧结用陶瓷的颗粒和分散介质的浆料喷雾至该烧结部的表面。

8.一种陶瓷成型体的制造方法，其特征在于，具备如下工序：将含有陶瓷颗粒、分散剂和分散介质、且该陶瓷颗粒的浓度为20～40体积％的浆料喷雾至被加热到150℃以上且小于400℃的温度的基材的表面，

该分散剂的含有比例相对于所述陶瓷颗粒100体积份为0.1～10体积份。

9.根据权利要求8所述的陶瓷成型体的制造方法，其中，所述分散介质包含水或醇。

10.一种用于权利要求8所述的陶瓷成型体的制造方法的陶瓷成型体的制造装置，其特征在于，具备：

浆料喷雾部，其将浆料喷雾至基材，所述浆料含有陶瓷颗粒、分散剂和分散介质，该陶瓷颗粒的浓度为20～40体积％，该分散剂的含有比率相对于所述陶瓷颗粒100体积份为0.1～10体积份；和，

基材加热部，其对所述基材进行加热。

11.一种陶瓷成型体的制造方法，其特征在于，依次具备：

涂布工序，将含有陶瓷颗粒和高分子粘结剂的浆料涂布至基材的表面；和，

脱脂工序，将通过该涂布工序得到的带涂膜的基材从该带涂膜的基材的下方进行加热，进行所述涂膜的脱脂，

所述脱脂工序中，通过下述的(A)或(B)对所述带涂膜的基材的下表面进行不均匀加热，

(A)将带涂膜的基材载置于具有凸部的热源的该凸部上，将带涂膜的基材的下表面加热；

(B)在将带涂膜的基材以其下表面的一部分相对于热源露出的方式载置于隔热材料上的状态下，将带涂膜的基材的下表面进行加热。

12.根据权利要求11所述的陶瓷成型体的制造方法，其中，所述脱脂工序中的加热温度为200℃以上。