[发明专利]标志器在审
| 申请号： | 201780010920.3 | 申请日： | 2017-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN108603748A | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 齐藤共启 | 申请（专利权）人： | 恩普乐股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;G01B11/26;G02B3/06;G03B35/00 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 温剑;陈英俊 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 凸面 标志器 被检测部 表里关系 材料形成 方式检测 方向垂直 方向配置 透光性 虚拟面 配置 像面 投影 虚拟 焦点 | ||
【权利要求书】：
1.一种标志器，由具有透光性的材料形成，其具有：多个凸面，至少沿着第一方向配置；以及多个被检测部，配置于与所述多个凸面呈表里关系的位置，且作为能够以光学的方式检测出来的像被投影于所述多个凸面，该标志器中，
所述多个被检测部配置为，位于比由于像面弯曲而弯曲的所述多个凸面的每一个的像面之中距所述凸面最远的点即所述多个凸面的每一个的焦点更靠所述凸面侧的位置，且位于与所述标志器的高度方向垂直的同一虚拟面上，
所述像面由包含一个所述凸面的一个光学单元划分。
2.如权利要求1所述的标志器，其中，
所述虚拟面位于与由于像面弯曲而弯曲的所述多个凸面的每一个的像面之中距所述凸面最近的点相比更远离所述凸面的位置。
3.如权利要求1或权利要求2所述的标志器，其中，
所述虚拟面位于在所述多个凸面的每一个的光轴上比所述多个凸面的每一个的焦点偏向所述凸面侧所述凸面的焦点距离的5％的长度以上的位置。
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