[发明专利]使用相对的滤光器掩模进行相位检测自动聚焦有效
| 申请号： | 201780011056.9 | 申请日： | 2017-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN108700472B | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 米科·奥利拉;雅尔诺·尼卡恩 | 申请（专利权）人： | 英特尔公司 |
| 主分类号： | G01J9/00 | 分类号： | G01J9/00;G01J9/02 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 宗晓斌 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 使用 相对 滤光 器掩模 进行 相位 检测 自动 聚焦 | ||
用于相位检测自动聚焦的示例传感器包括多个光电二极管以捕获多个波长的光。示例传感器还包括滤色器阵列，该滤色器阵列包括与多个光电二极管相对应的交替的彩色通过滤光器的格栅。示例传感器还包括掩模，该掩模包括多个滤光器，以通过阻挡至少两个交替的彩色通过滤光器的相对部分上的光带来分离光带。
本申请要求Ollila等人于2016年3月11日递交的名称为“Phase DetectionAutofocus Using Opposing Filter Masks(使用相对的滤光器掩模进行相位检测自动聚焦)”、序列号为15/067,269的美国专利申请的申请日的权益，并且该美国专利申请通过引用并入本文。
背景技术
具有多个透镜元件的成像设备通常包括自动聚焦功能，该功能自动地将透镜聚焦到要拍摄的对象的距离。例如，可以分别分析从对象反射并以不同角度进入透镜的光来确定为聚焦在对象上而要执行的调整的量。
附图说明
图1是示出可用于基于相移的自动聚焦的示例计算设备的框图；
图2是示出具有掩模(mask)的示例滤色器阵列的框图；
图3是示出具有掩模的另一示例滤色器阵列的框图；
图4是示例双层相位检测自动聚焦机构的横截面；
图5是具有集成掩模的示例相位检测自动聚焦机构的横截面；
图6是具有双光圈透镜的示例成像设备的横截面；以及
图7是示出用于调整自动聚焦机构的方法的流程图；以及
图8是示出用于调整自动聚焦机构的电子滤光器的方法的流程图。
本公开和附图通篇使用相同的数字来引用相似的组件和特征。100系列中的数字指的是最初在图1中找到的特征；200系列中的数字指的是最初在图2中找到的特征；以此类推。
具体实施方式
相位检测自动聚焦(PDAF)可以分析从对象反射并以不同角度进入透镜的光来确定为聚焦在对象上而要对透镜执行的调整的量。传统上，数字单透镜反射(DSLR)相机中的PDAF除了成像传感器之外还通过单独的PDAF传感器来实现，但最近传感器上的(on-sensor)PDAF也是可用的。传感器上的PDAF包括在成像传感器中使用PDAF功能。
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