[发明专利]衬底处理系统及光刻设备

权利要求书

1.一种用于处理衬底的衬底处理系统，包括：

保持装置，用于保持所述衬底；

旋转装置，用于使所述保持装置围绕垂直于平面的轴线旋转；

移动装置，用于使所述保持装置相对于所述轴线沿着所述平面中的路径移动；

耦接装置，所述耦接装置被布置成在第一情形中将所述保持装置耦接至所述移动装置和所述旋转装置中的一个，其中所述耦接装置被布置成在第二情形中将所述保持装置与所述移动装置和所述旋转装置中的所述一个解耦，

其中，在所述第一情形中，所述移动装置被布置成在移动所述旋转装置的同时移动所述保持装置，其中，在所述第二情形中，所述移动装置被布置成在不移动所述旋转装置的情况下移动所述保持装置。

2.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中，在所述第一情形中，所述旋转装置被布置成在旋转所述移动装置的同时旋转所述保持装置，其中，在所述第二情形中，所述旋转装置被布置成在不旋转所述移动装置的情况下旋转所述保持装置。

3.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中，所述耦接装置被布置成在所述第一情形中将所述保持装置与所述旋转装置彼此耦接和在所述第二情形中解耦所述保持装置与所述旋转装置。

4.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中，所述耦接装置包括第一部分、第二部分和致动器，其中所述第一部分具有第一接触区域，其中所述第二部分具有第二接触区域，其中所述耦接装置被布置成在所述第一情形中耦接所述第一接触区域与所述第二接触区域，其中所述致动器被布置成在所述第二情形中分离所述第一接触区域与所述第二接触区域。

5.根据权利要求4所述的衬底处理系统，其中，所述致动器包括气体喷嘴，其中所述气体喷嘴被布置成在所述第二情形中提供气体以分离所述第一接触区域与所述第二接触区域。

6.根据权利要求4所述的衬底处理系统，其中，所述耦接装置包括柔性元件，其中所述第一部分和所述第二部分经由所述柔性元件彼此连接，其中所述柔性元件在所述平面中的方向上是柔性的。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的衬底处理系统，其中，所述旋转装置被布置成使所述保持装置旋转至少360°。

8.根据权利要求1-6中任一项所述的衬底处理系统，其中，所述保持装置包括用于调节所述衬底的温度的热调节装置。

9.根据权利要求1-6中任一项所述的衬底处理系统，包括被布置成提供表示所述衬底的中心相对于参考元件的位置的信号的传感器。

10.根据权利要求9所述的衬底处理系统，包括被布置成基于所述信号来控制所述移动装置的移动和所述旋转装置的旋转的控制器。

11.根据权利要求10所述的衬底处理系统，其中，所述控制器被布置成基于所述信号来确定所述衬底的所述中心与所述参考元件之间的偏移。

12.根据权利要求11所述的衬底处理系统，其中，所述控制器被布置成通过控制所述移动装置的所述移动和所述旋转装置的所述旋转来改变所述偏移。

13.根据权利要求9所述的衬底处理系统，其中，所述参考元件包括对接装置，其中所述对接装置被布置成与机器人对接，所述机器人被布置成在所述机器人与所述对接装置对接时将所述衬底装载至所述保持装置上或从所述保持装置卸除所述衬底。

14.根据权利要求13所述的衬底处理系统，包括所述机器人。

15.一种光刻设备，包括根据前述权利要求中任一项所述的衬底处理系统。