[发明专利]衬底处理系统及光刻设备

说明书

提供一种用于处理衬底(W)的衬底处理系统(200)，所述衬底处理系统包括保持装置(202)、旋转装置(206)及移动装置(204)。所述保持装置用于保持所述衬底。所述旋转装置用于使所述保持装置围绕垂直于平面的轴线(208)旋转。所述移动装置用于使所述保持装置相对于所述轴线沿着所述平面中的路径移动。另外，提供一种包括所述衬底处理系统的光刻设备。所述衬底处理系统可以包括被布置成在第一情形中将所述保持装置耦接至所述移动装置和所述旋转装置中的一个的耦接装置(210)。所述耦接装置可以被布置成在第二情形中将所述保持装置与所述移动装置和所述旋转装置中的所述一个解耦。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2016年2月24日提交的欧洲申请16157034.6的优先权，并且它通过引用而全文合并到本发明中。

技术领域

本发明涉及一种用于处理衬底的衬底处理系统及光刻设备。

背景技术

光刻设备是一种用在集成电路(IC)的制造中的机器。在这种情况下，可以将可替代地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成于所述IC的单层上的电路图案。可以将所述图案通过辐射束经由投影系统转印到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分上。通常将图案成像到设置于衬底上的辐射敏感材料层上来进行所述图案的转印。通常，单个衬底将包括被连续地形成图案的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分。已知的光刻设备还包括所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向扫描所述图案、同时沿与所述方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。

光刻设备通常设置有衬底处理系统。衬底处理系统被布置成从光刻设备的外部接收衬底和将所述衬底进一步转移至光刻设备中。在一些应用中，衬底处理系统被布置成从光刻设备中的一个部分接收衬底和将所述衬底转移至所述光刻设备的另一部分。衬底处理系统典型地具有两个功能。第一功能为将衬底与参照物对准，因此衬底的位置和方向在特定的所期望的范围内。该对准功能也被称作预对准。另一功能典型地为热调节所述衬底。

一种已知的衬底处理系统被公开于美国专利申请第US2015/0070666A1号中，并且它通过引用而并到本发明中。所述已知的衬底处理系统具有热调节系统，该热调节系统保持衬底且提供衬底与热调节系统之间的热传递。所述已知的衬底处理系统还具有用于在预对准期间旋转衬底的衬底位置操纵器。

发明内容

所述已知的衬底处理系统的缺点为热调节在预对准期间受到限制。在预对准期间，晶片在水平平面(x)中移动且围绕垂直于水平平面的轴线(Rz)旋转。在所述已知的衬底处理系统中，以两种方式中的一种沿Rz旋转衬底。在第一种方式中，气体膜设置于衬底与热调节装置之间。在与衬底交换热时，气体膜并不像与实体接触那样有效。在第二种方式中，进行实体接触。然而，当衬底将被旋转或移动时，衬底首先需要从热调节装置提高，这不利地影响衬底的热调节。

本发明的目的是提供一种衬底处理系统所述衬底处理系统提供对衬底的改善的热调节。

在本发明的第一方面中，提供一种衬底处理系统，包括

保持装置，用于保持衬底；

旋转装置，用于使所述保持装置围绕垂直于平面的轴线旋转；以及

移动装置，用于使所述保持装置相对于所述轴线沿着所述平面中的路径移动。

在本发明的第二方面中，提供一种包括衬底处理系统的光刻设备。

附图说明

现在仅通过举例的方式参考所附的示意图来描述本发明的实施例，附图中相应的附图标记表示相应的部件，并且在附图中：

图1描绘了根据本发明的光刻设备；