[发明专利]致动器系统和光刻设备有效
申请号: | 201780013380.4 | 申请日: | 2017-01-30 |
公开(公告)号: | CN108700828B | 公开(公告)日: | 2020-09-15 |
发明(设计)人: | R·E·范莱文;H·巴特勒 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01B9/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王静 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 致动器 系统 光刻 设备 | ||
一种致动器系统(AS)配置成定位物体(OJ),所述致动器系统包括压电式致动器(PA),所述压电式致动器包括致动器接触表面(ACS)。所述压电式致动器置成经由所述致动器接触表面将力(F)施加至所述物体上。所述致动器系统还包括光学位置传感器(OPS),所述光学位置传感器配置成测量所述致动器接触表面的位置。所述压电式致动器包括透明压电式材料。所述光学位置传感器配置成使光束(OB)穿过所述透明压电式材料透射至所述致动器接触表面。所述透明压电式材料可以是LiNBO3。所述光学位置传感器可以形成干涉仪。
相关申请的交叉引用
本申请要求于2016年2月25日提交的欧洲申请16157397.7的优先权,该欧洲申请的全部内容以引用的方式并入本文中。
技术领域
本发明涉及一种致动器系统和包括这样的致动器系统的光刻设备。
背景技术
光刻设备是一种将所期望的图案施加到衬底(通常是在衬底的目标部分上)上的机器。例如,光刻设备可用于制造集成电路(IC)。在这种情况下,可以将可替代地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成于IC的单层上的电路图案。可以将该图案转印到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括管芯的一部分、一个或更多个管芯)上。通常,通过将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行图案的转印。通常,单个衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。常规的光刻设备包括所谓的步进器和所谓的扫描器,在步进器中,通过将整个图案一次曝光到目标部分上来辐射每个目标部分;在扫描器中,通过辐射束沿给定方向(“扫描器”方向)扫描图案,同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步扫描衬底来辐射每个目标部分。还可以通过将图案压印到衬底上而将图案从图案形成装置转印至衬底上。
在光刻设备中以及在期望精确地且快速地定位物体的其他应用中,可以使用压电式致动器。压电式致动器依赖于压电效应,由此为了压电材料的变形,而提供施加至压电式致动器的压电材料的电压。压电式致动器可以例如被应用以定位物体。已知许多压电材料。虽然压电材料展现出有利的属性,诸如是刚性的、具有高的分辨率以及提供了快速响应,但是压电材料还可能展现出一些不有利的属性。例如,所施加的电压和压电式致动器的变形度之间的关系可能是不准确的,例如由于滞后效应或其它效应。为了测量物体的位置,可以应用位置传感器。所述位置传感器可以例如由干涉仪或编码器形成。一方面,因为将需要针对每个致动器增设分立的位置传感器,这导致了复杂的系统。另一方面,物体的变形,诸如共振模式,可以导致物体位置的定位误差,这是因为致动器将力施加至物体的一部分上的同时,所述位置传感器测量物体的另一部分的位置,由此每个与物体的不同的部分相关联。
发明内容
期望提供一种改善的压电致动器。
根据本发明的一个实施例,提供了一种致动器系统,配置成定位物体,所述致动器系统包括:
压电式致动器,包括致动器接触表面,其中所述压电式致动器配置成经由所述致动器接触表面将力施加至所述物体上,和
光学位置传感器,配置成测量所述致动器接触表面的位置,
其中所述压电式致动器包括透明压电材料,以及
其中所述光学位置传感器配置成用于使光束穿过所述透明压电材料透射至所述致动器接触表面。
在本发明的另一实施例中,提供了一种光刻投影设备,包括根据本发明所述的致动器系统。
附图说明
现在将参考所附的示意性附图、仅以举例的方式来描述本发明的实施例,在附图中相应的附图标记表示相应的部件,且在所述附图中:
图1示出了可以提供本发明的实施例的光刻设备;
图2示出了根据本发明的一实施例的致动器系统;
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