[发明专利]闭合装置、具有闭合装置的真空系统和操作闭合装置的方法有效
申请号: | 201780015220.3 | 申请日: | 2017-06-08 |
公开(公告)号: | CN109392303B | 公开(公告)日: | 2020-09-15 |
发明(设计)人: | U·奥尔登多夫;C·克莱森 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | F16K37/00 | 分类号: | F16K37/00;F16K51/02;F16K3/18;F16K3/316 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 闭合 装置 具有 真空 系统 操作 方法 | ||
提供一种闭合装置(100,200),特别是用于闭合真空腔室的开口。闭合装置包括:凸缘(110),设于真空腔室并包括开口(112);阻挡装置(120,220),经构造以闭合开口(112);第一磁性装置(130),经构造以在凸缘(110)与阻挡装置(120)之间产生磁性闭合力,用于将阻挡装置的至少一部分从打开位置(I)传送至闭合位置(II);和磁悬浮系统(150),经构造以在平行于凸缘(110)的第一方向(T)中沿着引导结构非接触地传送阻挡装置(120),其中磁悬浮系统包括第二磁性装置(160),经构造以在第二方向(X)中稳定阻挡装置(120),第二方向(X)横向于第一方向(T)。
技术领域
本公开内容的实施方式涉及一种闭合装置,特别涉及一种用于以真空密封方式闭合第一压力区域和第二压力区域之间的开口的闭合装置。更特别是,描述了一种用于闭合真空腔室的开口的闭合装置。实施方式更有关于一种包括真空腔室和闭合装置的真空系统,所述闭合装置用于以真空密封方式闭合真空腔室的开口。实施方式更有关于一种操作闭合装置的方法,特别涉及一种闭合真空腔室的开口的方法。
背景技术
可使用锁定阀、闸阀、闸和其它闭合装置以通过真空密封方式相对于大气环境闭合真空系统,或分离具有彼此不同的压力的真空系统的数个区域。举例来说,闸阀或另一闭合装置可用作真空腔室的可闭合的门,或用作两个真空区域之间的可闭合的通道,以便在闭合装置处于打开位置中时,传送基板或其它物体进入真空腔室中、将基板或其它物体传送离开真空腔室、或早真空腔室的两个真空区域之间传送基板或其它物体。在闭合装置的闭合位置中,具有不同压力的两个区域通过闭合装置的阻挡装置(例如,盖、桨板(paddle)或闭合板)而被彼此分离。
闭合装置可包括凸缘,所述凸缘通常为连接至真空腔室的壁的静止元件或与真空腔室的壁一体形成的静止元件,其中凸缘设置有开口,所述开口被凸缘壁围绕开口。闭合装置可还包括可移动的阻挡装置(例如,盖),经构造以利用真空密封方式闭合凸缘的开口。在盖的闭合位置中,盖可停置(sit)于凸缘的密封表面上,所述凸缘的密封表面围绕开口,使得开口被密封。在盖的打开位置中,开口可用来传送例如是基板或掩模的元件通过开口。
基板尺寸,例如,用于光学、电子、或诸如显示器和/或有机发光二极管(OLED)装置的光电应用的基板尺寸,持续地增加。因此,提供具有大的开口的闭合装置会为有利的。所述大的开口经构造以在打开位置中传送大面积基板通过大的开口。举例来说,闭合装置的开口可具有0.5m2或更大的面积。
闭合装置的相关因素是盖和凸缘的变形,例如,在盖在闭合装置的闭合状态下被压向凸缘的密封表面时。变形的结果可能为盖和凸缘之间的非均匀压力,特别是在密封元件上的非均匀压力。因此,可能需要高的闭合力,所述高的闭合力反而可能致使在真空系统中的粒子产生,例如,由于凸缘和盖之间的摩擦力而导致的粒子产生。粒子产生可能负面地影响真空品质。再者,真空沉积系统中的微小粒子可能负面地影响沉积结果,因为一些粒子可能附接于基板。
类似地,在盖的闭合运动期间,弹性密封元件和盖之间的相对运动可能致使粒子产生。
因此,提供用于真空腔室的如下闭合装置是有利的:所述闭合装置经构造而也可靠地闭合大的开口,并同时减少真空腔室中因摩擦力而导致的粒子产生。
发明内容
有鉴于上述,提出一种闭合装置、一种真空系统和一种操作闭合装置的方法。
根据本公开内容的一方面,提出一种闭合装置。闭合装置包括凸缘,设于真空腔室并包括开口;阻挡装置,经构造以闭合开口;第一磁性装置,经构造以在凸缘和阻挡装置之间产生磁性闭合力,用于将阻挡装置或阻挡装置的一部分从打开位置传送至闭合位置;和磁悬浮系统,经构造以在平行于所述凸缘的第一方向中沿着引导结构非接触地传送阻挡装置,其中磁悬浮系统包括第二磁性装置,经构造以于第二方向中稳定阻挡装置,第二方向横向于第一方向。
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