[发明专利]制造EUV投射曝光系统的照明系统的方法和照明系统

权利要求书

1.一种制造EUV设备的照明系统的方法，其中在所述EUV设备的操作期间，所述照明系统实施为在入射平面中的源位置处接收EUV辐射源(LS)的EUV辐射(LR)，并且实施为从接收的EUV辐射中的至少一部分使照明辐射成形，所述照明辐射被指引到所述照明系统的出射平面(ES)中的照明场中且在所述照明场中满足照明规范，所述方法具有以下步骤：

在提供给反射镜模块的安装位置处安装所述照明系统的反射镜模块，以确立从所述源位置延伸到所述照明场的照明束路径，

其中所述反射镜模块包括第一安装位置处具有第一分面反射镜的第一反射镜模块和所述照明系统的第二安装位置处具有第二分面反射镜的第二反射镜模块；

在所述照明束路径的第一反射镜模块的上游的输入耦合位置处将测量光耦合到所述照明束路径中；

在所述测量光在所述照明束路径的反射镜模块中的每一个处的反射之后，检测所述测量光；

从检测的测量光来确定至少一个系统测量变量的当前测量值，其中所述当前测量值表示所述照明系统的系统测量变量的当前状态；

使用灵敏度从所述当前测量值来确定校正值，所述灵敏度表示所述系统测量变量和至少一个反射镜模块在其安装位置的取向的变化之间的关系；

使用所述校正值，在刚性主体的自由度上所述安装位置的反射镜模块的取向变化的情况下，调整至少一个反射镜模块，以改变所述当前状态，使得在具有来自所述EUV辐射源的EUV辐射的辐照情况下，所述照明场中的照明辐射满足所述照明规范，

其中，所述方法还包括反射镜模块的交换操作，所述反射镜模块的交换操作包含：

从其安装位置拆卸反射镜模块；

从所述照明系统移除所述反射镜模块；

替代移除的反射镜模块，将名义上相同构造的反射镜模块安装到所述安装位置；

在改变刚性主体的自由度上所述安装位置的反射镜模块的取向的情况下，调整安装的反射镜模块。

2.一种制造EUV设备的照明系统的方法，其中在所述EUV设备的操作期间，所述照明系统实施为在入射平面中的源位置处接收EUV辐射源(LS)的EUV辐射(LR)，并且实施为从接收的EUV辐射中的至少一部分使照明辐射成形，所述照明辐射被指引到所述照明系统的出射平面(ES)中的照明场中且在所述照明场中满足照明规范，所述方法具有以下步骤：

在提供给反射镜模块的安装位置处安装所述照明系统的反射镜模块，以确立从所述源位置延伸到所述照明场的照明束路径，

其中所述反射镜模块包括第一安装位置处具有第一分面反射镜的第一反射镜模块和所述照明系统的第二安装位置处具有第二分面反射镜的第二反射镜模块；

在所述源位置处将测量光耦合到所述照明束路径中，使得所述测量光遵循从所述源位置到所述反射镜模块中的每一个的照明束路径；

在所述测量光在所述照明束路径的反射镜模块中的每一个处的反射之后，检测所述测量光；

从检测的测量光来确定至少一个系统测量变量的当前测量值，其中所述当前测量值表示所述照明系统的系统测量变量的当前状态；

使用灵敏度从所述当前测量值来确定校正值，所述灵敏度表示所述系统测量变量和至少一个反射镜模块在其安装位置的取向的变化之间的关系；

使用所述校正值，在刚性主体的自由度上所述安装位置的反射镜模块的取向变化的情况下，调整至少一个反射镜模块，以改变所述当前状态，使得在具有来自所述EUV辐射源的EUV辐射的辐照情况下，所述照明场中的照明辐射满足所述照明规范。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中使用来自与所述照明系统的适当使用期间所采用的EUV辐射不同的波长范围的测量光，其中所述测量光的波长范围是可见光谱范围或邻接UV光谱范围或红外光谱范围的部分。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其中从所述当前测量值确定的是来自系统测量变量的以下组的至少一个系统测量变量：

(i)所述出射平面中的所述照明场的位置；

(ii)所述照明系统的光瞳平面中的测量光的局部分布，所述光瞳平面是相对于所述出射平面傅里叶变换的；

(iii)所述第二分面反射镜的分面上的测量光斑的位置。