[发明专利]微细图案形成用组合物以及使用其的微细图案形成方法

权利要求书

1.一种组合物，其包含乙烯基树脂、由以下的式(I)表示的胺类化合物、以及溶剂，

【化学式1】

式中，

L¹、L²以及L³各自独立地为2个或者3个结合单元-CR₂-进行结合而得到的二价基团，R各自独立地为氢或者碳原子数1～6的烷基，

其中，所述乙烯基树脂是由乙烯基吡咯烷酮单体以及乙烯基咪唑单体衍生的。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中，L¹、L²以及L³分别为2个结合单元进行结合而得到的二价基团。

3.根据权利要求2所述的组合物，其中，所述乙烯基树脂为水溶性乙烯基树脂。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的组合物，其中，所述乙烯基树脂是由以下的式(II)表示的聚合物，

【化学式2】

式中，

R¹、R²以及R³各自独立地为氢或者甲基，R⁴是烷基氧基羰基、羟基烷基氧基羰基、烷基羰基氧基或者羟基烷基羰基氧基，此处烷基是碳原子数1～6的直链状或者分支状烷基，

x、y以及z分别为5～1000的整数，且

各个重复单元可以无规地结合，规则地结合，或以嵌段方式结合。

5.根据权利要求4所述的组合物，其中，所述胺类化合物与所述乙烯基树脂的质量之比为0.2以上且0.3以下。

6.根据权利要求5所述的组合物，其中，所述溶剂包含水。

7.根据权利要求6所述的组合物，其中，还包含表面活性剂。

8.一种微细图案的制造方法，其包含以下的工序：

在基板上形成抗蚀图案的工序，

将权利要求1～7中任一项所述的组合物涂布于所述抗蚀图案上，以形成组合物层的工序，

将所述抗蚀图案以及所述组合物层进行混合烘烤，以在所述组合物层中形成不溶化层的工序，以及

将除了所述不溶化层以外的所述组合物层去除的工序。

9.根据权利要求8所述的制造方法，其中，所述抗蚀图案的膜厚为1μm以上且10μm以下。

10.根据权利要求9所述的制造方法，其中，

通过使水、可溶于水的有机溶剂与水的混合液、或者碱水溶液与所述组合物层接触，从而将除了所述不溶化层以外的所述组合物层去除。

11.一种器件的制造方法，其包含以下的工序：

在基板上形成抗蚀图案的工序，

将权利要求1～7中任一项所述的组合物涂布于所述抗蚀图案上，以形成组合物层的工序，

将所述抗蚀图案以及所述组合物层进行混合烘烤，以在所述组合物层中形成不溶化层的工序，

将除了所述不溶化层以外的所述组合物层去除，以形成微细图案的工序，

将所述微细图案作为掩模，对基板进行离子注入的工序，以及

在所述离子注入后，将所述微细图案去除的工序。