[发明专利]光波导层叠体及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201780018648.3 申请日: 2017-02-07
公开(公告)号: CN108885304B 公开(公告)日: 2020-05-26
发明(设计)人: 田中直幸 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B6/122 分类号: G02B6/122;G02B6/12;G02B6/13;H05K1/02
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 波导 层叠 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光波导层叠体,该光波导层叠体具有光波导和层叠于上述光波导的至少单面的有机基材层,

该光波导层叠体的特征在于,

上述光波导层叠体具有光波导暴露部,使光波导自使层叠于光波导的有机基材层的一部分欠缺而成的欠缺部局部地暴露而形成该光波导暴露部,

将上述光波导处的波长处于预定的波长区域内的激光的透过率设为P,将上述有机基材层处的上述激光的透过率设为Q,上述的P、Q满足下述的不等式(1)、(2),

P≥70%……(1)、P-Q≥25%……(2)。

2.根据权利要求1所述的光波导层叠体,其中,

上述有机基材层处的激光的透过率Q为70%以下。

3.根据权利要求1或2所述的光波导层叠体,其中,

上述有机基材层是聚酰亚胺树脂层。

4.根据权利要求1或2所述的光波导层叠体,其中,

上述有机基材层的与欠缺部的边界端面为激光切削面。

5.一种光波导层叠体的制造方法,其具有如下工序:

在光波导的至少单面层叠有机基材层的工序;以及利用波长处于预定的波长区域内的激光照射来去除上述有机基材层的一部分而形成使光波导局部地暴露的光波导暴露部的工序,

该光波导层叠体的制造方法的特征在于,

使上述光波导处的上述激光的透过率P满足下述的不等式(1),

使上述有机基材层处的上述激光的透过率Q满足下述的不等式(2),

P≥70%……(1)、P-Q≥25%……(2)。

6.根据权利要求5所述的光波导层叠体的制造方法,其中,

上述有机基材层处的激光的透过率Q为70%以下。

7.根据权利要求5或6所述的光波导层叠体的制造方法,其中,

上述有机基材层为聚酰亚胺树脂层。

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