[发明专利]晶片缺陷检查及审查系统

说明书

本发明揭示成像物镜及配备有此类成像物镜的检查系统。所述成像物镜可包含前物镜，所述前物镜经配置以产生受衍射限制的中间图像。所述成像物镜还可包含中继器，所述中继器经配置以接收由所述前物镜产生的所述中间图像。所述中继器可包含三个球面镜，所述球面镜经定位以将所述中间图像的投影传递到固定图像平面。

相关申请的交叉参考

本申请根据35 U.S.C.§119(e)规定要求2016年2月3日申请的第62/290,586号美国临时申请的权利。所述第62/290,586号美国临时申请的全文以引用的方式并入本文中。

本申请涉及2016年2月26日申请的共同待审的第15/055,292号美国专利申请。所述第15/055,292号美国专利申请的全文以引用的方式并入本文中。

技术领域

本发明大体上涉及检查的领域，且特定来说涉及半导体装置的检查。

背景技术

薄抛光板(例如硅晶片及类似物)是现代技术非常重要的一部分。例如，晶片可指用于制造集成电路及其它装置的半导体材料的薄片。薄抛光板的其它实例可包含磁盘衬底、块规及类似物。尽管此处所描述的技术主要指晶片，但应了解，本技术还适用于其它类型的抛光板。术语晶片及术语薄抛光板在本发明中可互换使用。

晶片经受缺陷检查。预期用于执行此类检查的工具是高效且有效的。然而，应注意，大规模电路集成及尺寸缩减的最近发展已向这种期望提出挑战。即，随着缺陷变得越来越小，既有检查工具在检测缺陷时变得不那么高效及有效。

就此来说，需要没有前述缺点的改进检查系统。

发明内容

本发明涉及一种成像物镜。所述成像物镜可包含前物镜，所述前物镜经配置以产生中间图像。所述成像物镜还可包含中继器，所述中继器经配置以接收由所述前物镜产生的所述中间图像。所述中继器可包含三个球面镜，所述球面镜经定位以将所述中间图像的投影传递到固定图像平面。

本发明的进一步实施例涉及一种检查系统。所述检查系统可包含检测器，所述检测器定位于所述检查系统内的固定位置。所述检查系统还可包含前物镜，所述前物镜经配置以产生受衍射限制的中间图像。所述检查系统可进一步包含中继器，所述中继器经配置以接收由所述前物镜产生的所述中间图像。所述中继器可包含三个球面镜，所述球面镜经定位以将所述中间图像的投影传递到经定位在所述固定位置的所述检测器。

本发明的额外实施例涉及一种成像物镜。所述成像物镜可包含前物镜，所述前物镜经配置以产生受衍射限制的中间图像。所述成像物镜还可包含中继器，所述中继器经配置以接收由所述前物镜产生的所述中间图像。所述中继器可包含三个球面镜，所述球面镜经定位以将所述中间图像的投影传递到固定图像平面。所述三个球面镜可均为基本上不遮光的反射镜，且可经配置以相对于彼此具有不同曲率。

应了解，前文大体描述及下文详细描述两者皆仅为示范性及解释性，且未必限制本发明。并入本说明书中且构成本说明书的一部分的附图说明本发明的主题。这些描述及图式一起用于解释本发明的原理。

附图说明

所属领域的技术人员通过参考附图可更好地理解本发明的众多优点，其中：

图1是描绘根据本发明的实施例配置的检查系统的框图；

图2是描绘根据本发明的实施例配置的示范性成像物镜的光学布局的示意图；

图3是描绘图2中展示的光学布局的一部分的示意图；

图4是描绘图2中展示的光学布局的另一部分的示意图；及

图5是描绘展示用于图2中展示的光学布局的各种放大率的多种变焦配置的重叠的光学布局的示意图。

具体实施方式