[发明专利]用于对对象进行X射线成像的装置

权利要求书

1.一种用于对对象进行X射线成像的装置(10)，包括：

-至少一个X射线源(20)；

-X射线干涉仪布置(30)；

-X射线探测器(40)；

其中，所述X射线探测器被配置为相对于所述至少一个X射线源被定位，使得所述至少一个X射线源与所述X射线探测器之间的区域的至少部分是用于容纳对象的检查区域(50)；

其中，所述X射线干涉仪布置包括第一光栅(32)和第二光栅(34)；

其中，在第一操作模式中，所述至少一个X射线源被配置为产生第一焦斑(21)，并且所述至少一个X射线源被配置为产生X射线，使得在所述第一焦斑处产生的至少一些第一X射线穿过第一位置处的所述第一光栅并且穿过第二位置处的所述第二光栅，其中，探测器位置处的所述X射线探测器被配置为探测所述至少一些第一X射线；以及

其中，在第二操作模式中，所述至少一个X射线源被配置为产生第二焦斑(22)，并且所述至少一个X射线源被配置为产生X射线，使得在所述第二焦斑处产生的至少一些第二X射线避开所述第一位置处的所述第一光栅，其中，所述探测器位置处的所述X射线探测器被配置为探测所述至少一些第二X射线。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述第一位置处的所述第一光栅(32)被定位在所述检查区域(50)与所述第一焦斑(21)之间。

3.根据权利要求2所述的装置，其中，在所述第二操作中，所述至少一些第二X射线避开所述第二位置处的所述第二光栅(34)。

4.根据权利要求3所述的装置，其中，所述第二位置处的所述第二光栅(34)被定位在所述第一位置处的所述第一光栅(32)与所述检查区域(50)之间。

5.根据权利要求1-2中的任一项所述的装置，其中，在所述第二操作模式中，所述第二光栅(34)被配置为被定位在除所述第二位置之外的位置处，并且其中，在所述第二焦斑(22)处产生的所述至少一些第二X射线避开除所述第二位置之外的所述位置处的所述第二光栅。

6.根据权利要求1至5中的任一项所述的装置，其中，所述X射线干涉仪布置(30)包括第三光栅(36)，其中，在所述第一操作模式中，在所述第一焦斑(21)处产生的所述至少一些X射线穿过第三位置处的所述第三光栅，并且其中，在所述第二操作模式中，所述第三光栅被配置为被定位在除所述第三位置之外的位置处，并且其中，在所述第二操作模式中，在所述第二焦斑(22)处产生的所述至少一些第二X射线避开除所述第三位置之外的所述位置处的所述第三光栅。

7.根据权利要求1至6中的任一项所述的装置，其中，在所述第一操作模式中，所述至少一个X射线源(20)被配置在除所述第一焦斑(21)的位置之外的位置处产生第三焦斑(23)，并且所述至少一个X射线源被配置为使得在所述第三焦斑处产生的至少一些第三X射线穿过所述第一位置处的所述第一光栅(32)并且穿过所述第二位置处的所述第二光栅(34)，其中，所述探测器位置处的所述X射线探测器(40)被配置为探测所述至少一些第三X射线。

8.根据权利要求7所述的装置，其中，在所述第一操作模式中，所述至少一个X射线源(20)被配置为在除所述第一焦斑(21)的所述位置之外的位置处并且在除所述第三焦斑(23)的所述位置之外的位置处产生第四焦斑(24)，并且所述至少一个X射线源被配置为使得在所述第四焦斑处产生的至少一些第四X射线穿过所述第一位置处的所述第一光栅(32)并且穿过所述第二位置处的所述第二光栅(34)，其中，所述探测器位置处的所述X射线探测器(40)被配置为探测所述至少一些第四X射线，并且其中，所述第一焦斑的所述位置与所述第三焦斑的所述位置之间的轴正交于所述第一焦斑的所述位置与所述第四焦斑的所述位置之间的轴，或者所述第一焦斑的所述位置与所述第三焦斑的所述位置之间的所述轴正交于所述第三焦斑的所述位置与所述第四焦斑的所述位置之间的轴。

9.根据权利要求1-8中的任一项所述的装置，其中，所述至少一个X射线源(20)包括两个X射线管。