[发明专利]用于对对象进行X射线成像的装置在审
申请号: | 201780021013.9 | 申请日: | 2017-06-16 |
公开(公告)号: | CN109414232A | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | R·K·O·贝林 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00;G01N23/04 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 李光颖;王英 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光栅 操作模式 焦斑 探测器位置 第一位置 干涉仪 探测 穿过 第二位置 检查区域 成像 避开 容纳 | ||
本发明涉及一种用于对对象进行成像的装置(10)。描述了相对于至少一个X射线源定位(210)X射线探测器,使得所述至少一个X射线源与所述X射线探测器之间的区域的至少部分是用于容纳对象的检查区域。在第一操作模式中,利用所述至少一个X射线源,产生(220)第一焦斑,使得在所述第一焦斑处产生的至少一些第一X射线穿过干涉仪布置的第一光栅,并且使得所述至少一些第一X射线穿过所述干涉仪布置的第二光栅,所述第一光栅被定位在第一位置处,所述第二光栅被定位在第二位置处。在所述第一操作模式中,所述至少一些第一X射线利用探测器位置处的所述X射线探测器来探测(230)。在第二操作模式中,利用所述至少一个X射线源,产生(240)第二焦斑,使得在所述第二焦斑处产生的至少一些第二X射线避开所述第一位置处的所述第一光栅。在所述第二操作模式中,所述至少一些第二X射线利用所述探测器位置处的所述X射线探测器来探测(250)。
技术领域
本发明涉及用于对对象进行X射线成像的装置、用于对对象进行X射线成像的系统和用于对对象进行X射线成像的方法,以及计算机程序单元和计算机可读介质。
背景技术
除衰减成像之外,差分相位对比成像和暗场成像(DPCI和DFI)是将可能添加额外的诊断价值的有前途的技术,例如用于乳房摄影或者用于关于小动物的临床前应用。常规X射线源可以与Talbot-Lau干涉仪和常规X射线探测器一起使用。然而,在其中不需要DPCI和DFI的任务类中,干涉仪被移动到射束线的外部。这是麻烦的,并且当再次需要DPCI和DFI时当干涉仪再次被移回时能够导致未对准问题。
US2007/0183559A1公开了X射线CT系统用于产生断层摄影相位对比和吸收图像,其中,因此用于相位对比的光栅位移。
发明内容
具有用于结合提供常规衰减图像提供暗场和/或相位对比图像的经改进的技术将是有利的。
本发明的目标利用独立权利要求的主题解决,其中,其他实施例被包含在从属权利要求中。应当注意,本发明的以下所描述的方面还适于用于对对象进行X射线成像的装置、用于对对象进行X射线成像的系统和用于对对象进行X射线成像的方法,以及所述计算机程序单元和所述计算机可读介质。
根据第一方面,提供了一种用于对对象进行X射线成像的装置,包括:
-至少一个X射线源;
-X射线干涉仪布置;以及
-X射线探测器。
所述X射线探测器被配置为相对于所述至少一个X射线源被定位,使得所述至少一个X射线源与所述X射线探测器之间的区域的至少一部分是用于容纳对象的检查区域。所述X射线干涉仪布置包括第一光栅和第二光栅。在第一操作模式中,所述至少一个X射线源被配置为产生第一焦斑。所述至少一个X射线源被配置为产生X射线,使得在所述第一焦斑处产生的至少一些第一X射线穿过第一位置处的所述第一光栅并且穿过第二位置处的所述第二光栅。探测器位置处的所述X射线探测器被配置为探测所述至少一些第一X射线。在第二操作模式中,所述至少一个X射线源被配置为产生第二焦斑。所述至少一个X射线源被配置为产生X射线,使得在所述第二焦斑处产生的至少一些第二X射线避开所述第一位置处的所述第一光栅。探测器位置处的所述X射线探测器被配置为探测所述至少一些第二X射线。
换言之,利用第一焦斑,X射线可以被发送通过对象并且穿过干涉仪布置并且由探测器探测以便提供差分相位对比成像(DPCI)和/或暗场成像(DFI)。然后,提供了额外焦斑,其可以通过电子或者磁性装置(如电子束的网格开关或者磁性偏转)或者其任何组合电子地切换以在不同的位置处生成X辐射,使得X射线可以通过对象发送并且在相同的位置处由探测器检测,并且X射线在不要求所述至少一个光栅的移动的情况下避开所述干涉仪布置的所述光栅中的至少一个。这使得能够从DPCI/DFI操作模式切换到常规衰减操作模式,而没有所述至少一个光栅的移动被要求,这通过焦斑操作的电子切换促进。
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