[发明专利]真空处理装置在审
| 申请号： | 201780021217.2 | 申请日： | 2017-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN108884561A | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 南展史;铃木杰之;武者和博;中尾裕利;佐藤诚一 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/34;C23C14/50;H01L21/677 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 朱美红;刘林华 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 侧移动 升降板 基板保持装置 真空处理装置 处理区域 处理装置 升降移动 交接装置 升降区域 真空处理 真空槽 侧方 配置 交接 穿过 | ||
1.一种真空处理装置，其特征在于，
具有：
真空槽，被运入运出基板保持装置，所述基板保持装置将处理对象物使处理面露出而配置；
升降装置，使配置在升降板上的前述基板保持装置在前述真空槽内升降移动；
上方侧移动装置，在前述真空槽内的上方侧使前述基板保持装置在横向上移动；
下方侧移动装置，在前述真空槽内的下方侧使前述基板保持装置在横向上移动；以及
交接装置，在前述升降板与前述上方侧移动装置及前述下方侧移动装置之间交接前述基板保持装置；
借助上方侧处理装置，对配置于由前述上方侧移动装置移动的前述基板保持装置的前述处理对象物进行真空处理，借助下方侧处理装置，对配置于由前述下方侧移动装置移动的前述基板保持装置的前述处理对象物进行真空处理；
在前述基板保持装置上设置有销；
前述交接装置具有能够与前述销卡合的钩。
2.如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于，
在前述升降板上下移动的范围的上部，设置有：
开口，设置在前述真空槽上；以及
盖部件，将前述开口覆盖而形成运入运出室；
如果将配置于前述基板保持装置的前述处理对象物插入到前述开口中，则前述开口被前述盖部件闭塞。
3.如权利要求2所述的真空处理装置，其特征在于，
设置有对前述运入运出室进行真空排气的真空排气装置。
4.如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于，
设置有在前述上方侧移动装置与前述下方侧移动装置之间交接前述基板保持装置的上下间交接装置。
5.如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于，
前述钩通过向上方或下方中的某一方移动，与前述销的卡合被解除。
6.如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于，
前述交接装置具有：
上方侧交接装置，在前述升降板与前述上方侧移动装置之间交接前述基板保持装置；以及
下方侧交接装置，在前述升降板与前述下方侧移动装置之间交接前述基板保持装置。
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