[发明专利]叠加方差稳定化方法及系统

权利要求书

1.一种用于叠加方差稳定化的方法，其包括：

选择经配置以对晶片执行叠加建模的叠加模型；

从所述叠加模型获得第一组经建模结果，所述第一组经建模结果指示适用于所述叠加模型的多个项系数的调整；

计算指示所述多个项系数的有效性的有效性矩阵；

基于经计算的所述有效性矩阵而识别所述多个项系数当中的至少一个较低有效项系数；

从所述叠加模型获得第二组经建模结果，所述第二组经建模结果指示适用于除经识别的所述至少一个较低有效项系数之外的所述多个项系数的调整；

加权所述至少一个较低有效项系数；

基于所述至少一个较低有效项系数的加权校正所述至少一个较低有效项系数；及

提供所述第二组经建模结果及经校正的所述至少一个较低有效项系数以促进叠加校正。

2.根据权利要求1所述的方法，其中至少部分地基于每一项系数对所述第一组经建模结果的影响而计算所述有效性矩阵。

3.根据权利要求1所述的方法，其中至少部分地基于每一项系数的方差及协方差而计算所述有效性矩阵。

4.根据权利要求1所述的方法，其中将所述经识别至少一个较低有效项系数级联且连同所述第二组经建模结果一起提供以促进叠加校正。

5.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括：

基于所述有效性矩阵而提供对至少一个处理工具的反馈控制或前馈控制。

6.根据权利要求1所述的方法，其中基于针对所述晶片选择的多个取样点而执行所述叠加建模。

7.根据权利要求6所述的方法，其进一步包括：

基于所述有效性矩阵而修改所选择的所述多个取样点。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述叠加模型为正交模型。

9.一种用于叠加方差稳定化的系统，其包括：

叠加度量工具，其经配置以从一组晶片获得度量数据；及

分析器，其与所述叠加度量工具进行通信，所述分析器经配置以：

选择经配置以对所述组晶片执行叠加建模的叠加模型；

从所述叠加模型获得第一组经建模结果，所述第一组经建模结果指示适用于所述叠加模型的多个项系数的调整；

计算指示所述多个项系数的有效性的有效性矩阵；

基于经计算的所述有效性矩阵而识别所述多个项系数当中的至少一个较低有效项系数；

从所述叠加模型获得第二组经建模结果，所述第二组经建模结果指示适用于除经识别的所述至少一个较低有效项系数之外的所述多个项系数的调整；

加权所述至少一个较低有效项系数；

基于所述至少一个较低有效项系数的加权校正所述至少一个较低有效项系数；及

提供所述第二组经建模结果及经校正的所述至少一个较低有效项系数以促进叠加校正。

10.根据权利要求9所述的系统，其中所述分析器经配置以至少部分地基于每一项系数对所述第一组经建模结果的影响而计算所述有效性矩阵。

11.根据权利要求9所述的系统，其中所述分析器经配置以至少部分地基于每一项系数的方差及协方差而计算所述有效性矩阵。

12.根据权利要求9所述的系统，其中所述分析器经配置以将所述经识别至少一个较低有效项系数级联且连同所述第二组经建模结果一起提供所述经识别至少一个较低有效项系数以促进叠加校正。

13.根据权利要求9所述的系统，其中所述分析器进一步经配置以基于所述有效性矩阵而提供对至少一个处理工具的反馈控制或前馈控制。

14.根据权利要求9所述的系统，其中基于针对所述组晶片选择的多个取样点而执行所述叠加建模。