[发明专利]表面处理方法及表面处理液

权利要求书

1.表面处理方法，其是使用了感光性表面处理液的表面处理方法，其包括下述步骤：

向被处理物的表面涂布所述感光性表面处理液而形成涂布膜的步骤，

对所述涂布膜的至少一部分进行曝光的步骤，

对已被曝光的所述涂布膜进行烘烤的步骤，以及

对已被烘烤的所述涂布膜进行清洗以将未附着于所述被处理物的表面的涂布膜除去，在所述被处理物的表面的已被曝光的位置形成膜厚10nm以下的薄膜的步骤，

所述感光性表面处理液包含(A)树脂、(B)光产酸剂、和(C)溶剂，

所述(A)树脂具有作为选自由羟基、氰基、及羧基组成的组中的1种以上的基团的官能团I、和作为所述官能团I以外的亲水性基团或疏水性基团的官能团II，并且所述(A)树脂为下述式(A6)表示的硅氧烷化合物或者为下述树脂：所述官能团II的所述亲水性基团为下述式(A1)表示的基团或者为来自下式(A2-1)表示的单体的基团，

-NH-R¹···(A1)

式(A1)中，R¹为被选自由氨基、磺酸基、及羟基组成的组中的1种以上的基团取代的碳原子数1～4的烷基、或氢原子，

CH₂＝CR²-(R³)_a-SO₃X···(A2-1)

式(A2-1)中，R²为氢原子或甲基，R³为2价的烃基，a为0或1，X为氢原子、或碱金属，

A¹-SiR¹⁰R¹¹-O-(-SiR¹⁰A²-O-)_p-SiR¹⁰R¹¹A³···(A6)

式(A6)中，R¹⁰及R¹¹各自独立地为碳原子数1～6的烃基，A¹、A²、及A³各自独立地为羟基、氰基、羧基、或碳原子数1～6的烃基，A¹、A²、及A³中的至少1个为羟基、氰基、或羧基，p为0以上的整数，

所述(B)光产酸剂产生pKa为1以下的强酸。

2.如权利要求1所述的表面处理方法，其中，所述涂布膜的曝光介由光掩模位置选择性地进行。

3.如权利要求1所述的表面处理方法，其中，所述官能团I来自下式(A2)表示的单体，

CH₂＝CR²-(R³)_a-CO-R⁴···(A2)

式(A2)中，R²为氢原子或甲基，R³为2价的烃基，a为0或1，R⁴为-OH、-O-R⁵、或-NH-R⁵，R⁵为被选自由羟基、氰基、及羧基组成的组中的1种以上的官能团取代的烃基。

4.如权利要求1所述的表面处理方法，其中，所述官能团II为亲水性基团，并且，来自下式(A5)表示的单体，

CH₂＝CR²-CO-NH-R¹···(A5)

式(A5)中，R¹为被选自由氨基、磺酸基、及羟基组成的组中的1种以上的基团取代的碳原子数1～4的烷基、或氢原子，R²为氢原子或甲基。

5.如权利要求1～4中任一项所述的表面处理方法，其中，涂布所述表面处理液的面的材质为有机材料，所述(A)树脂具有羟基及/或羧基作为所述官能团I。