[发明专利]光学元件和包括该光学元件的光学组件

说明书

本发明涉及一种光学元件(14)，特别是EUV光刻的光学元件(14)，其包括：基板(15)、施加到基板(15)上的反射涂层(16)和导电涂层(19)，该导电涂层(19)在基板(15)和反射涂层(16)之间延伸并且具有拉张应力下的至少一个第一层(22a)和压缩应力下的至少一个第二层(22b)。该导电涂层(19)具有在基板(15)上横向延伸超出反射涂层(16)的至少一个段(20)。本发明还涉及光学组件、特别是EUV光刻系统，其包括这种类型的至少一个光学元件(14)。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2016年4月28日提交的德国专利申请DE 10 2016 207 307.9的优先权，其全部内容通过引用并入本申请的内容中。

技术领域

本发明涉及光学元件、特别是EUV光刻的光学元件，其包括：基板、施加在基板上的反射涂层、以及在基板和反射涂层之间延伸的导电涂层。本发明还涉及光学组件、特别是EUV光刻系统，其包括至少一个这样的光学元件。

背景技术

上面进一步描述的反射式光学元件已经由WO 2008/034582 A2公开。由于在以EUV辐射照射光学元件期间形成光电子、特别是形成二次电子，所以在反射涂层的面对环境的那个表面处产生电荷，该电荷典型地不能经由基板消散，因为基板是电绝缘的或与反射涂层(典型地多层涂层)相比较具有显著更低的电导率。因此在此所描述的导电涂层或导电层是可电接触的，以接地、施加限定电压或传导走光电流。

导电层可以是电接触的，以便于执行光学元件的接地或以便于将光学元件连接到限定电势。以这种方法，可以将电荷传输远离光学元件，并且可以避免光学元件带静电电荷。传输远离光学元件的电荷还可以用于测量光电流，该光电流可以用于得出关于光学元件的反射表面的污染程度的结论。

WO 2008/034582 A2提出从以下单层形成导电涂层：由金属构成的单层，例如由金、镍等构成的单层，或者由合金构成的单层。替代地，导电涂层还可以由(其他)多层系统构成。

WO 2006/033442 A1描述了反射掩模，其中导电层安装在背对反射涂层的基板的背面处，以便于将基板接地并且以这种方法保护基板免受静电电荷。使在基板的背面处的层继续导电的其他导电层覆盖了基板的侧表面以及还有基板的正面，在该处尤其施加反射涂层和结构化吸收体层。

JP 2007194406 A描述具有反射多层涂层的反射镜，其适用于接地多层涂层或适用于将电势施加到反射镜。出于该目的，导电层施加在多层涂层和基板之间，并且延伸至反射镜的侧表面处的安装件，在该反射镜的侧表面处安装反射镜的夹具。以这种方法，多层涂层可以接地，而不会损坏多层涂层的反射表面并且由此不会使反射镜的光学性质受损。

发明内容

发明目的

本发明的目的是提供光学元件和光学组件，其中光学元件的光学性质不被导电涂层损坏。

发明主题

该目的通过引言中所提及的类型的光学元件的来实现，其中导电涂层具有拉张应力之下的至少一个第一层和压缩应力之下的至少一个第二层。

在使用形式为由典型地层厚度为例如百纳米或更多的数量级的高导电性(通常地金属)材料构成的单独层的导电涂层的情况下，导电涂层的层应力可以导致图形中的变化，即基板的表面形状和/或反射涂层的反射表面的表面形状，使得光学像差可能发生，这可能损害反射镜的光学性质(特别是反射的EUV辐射的波前)，或者这可能使复杂的校正方法成为必需以便于在实际施加导电涂层前改变基板的图形。例如形式为拉张应力的高层应力，特别地发生在由贵金属(例如金)构成的导电涂层的情况下，以便于产生导电涂层的最高可能的导电率和耐化学性。