[发明专利]用于照明光束未对准的补偿的系统及方法

说明书

本发明涉及一种系统，其包含：光束操纵组合件，其经配置以调整入射光束以形成校正光束；光束监测组合件，其经配置以产生用于所述校正光束的监测数据，所述监测数据包含所述校正光束的一或多个偏移参数；及控制器，其经配置以：存储所述校正光束的一或多个零参数；计算所述校正光束的所述一或多个零参数与所述一或多个偏移参数之间的至少一个差异；基于所述校正光束的所述一或多个零参数与所述一或多个偏移参数之间的所述至少一个差异而确定所述入射光束的一或多个光束位置调整；及经由一或多个电动机驱动器引导所述光束操纵组合件以致动一或多个电动机以调整所述入射光束以形成所述校正光束。

相关申请案的交叉参考

本发明根据35U.S.C.§119(e)规定主张2016年5月2日申请的以弗兰克·李(FrankLi)、史蒂夫·徐(Steve Xu)、蒂姆斯威舍(Tim Swisher)、关永荣(Kwan Auyeung)及尤里·尤迪特斯基(Yury Yuditsky)为发明人的标题为用于晶片检验系统的照明激光束抖动的有源补偿的方法及系统(METHOD AND SYSTEM FOR ACTIVE COMPENSATION OF ILLUMINATIONLASER BEAM JITTER FOR WAFER INSPECTION SYSTEM)的第62/330,756号美国临时专利申请案，所述申请案的全部内容以引用的方式并入本文中。

技术领域

本发明大体上涉及晶片检验及复检，且特定来说，涉及调整检验系统中的照明光束以补偿未对准。

背景技术

制造例如逻辑及存储器装置的半导体装置通常包含使用较大数目个半导体制造工艺处理衬底(例如半导体晶片)以形成半导体装置的各种特征及多个层级。可在单个半导体晶片上的布置中制造多个半导体装置且接着将其分离为个别半导体装置。

半导体装置可在制造过程期间产生缺陷。随着对于具有不断变小的装置特征的集成电路的需求持续增大，对于这些不断缩小的装置的改进检验系统的需求持续增长。补偿这些改进检验系统中的照明光束的未对准变得越来越关键，因为甚至微小系统抖动可直接影响不断变小的装置的捕获率。

系统抖动可源自多个源，从而导致在0.1Hz到100Hz的范围中的抖动频率分布。一个系统抖动源是由冲放空气产生压力改变区且改变空气折射率所引起的沿着照明光束路径的“空气摆动”或湍流气流，其影响照明光束的位置在5Hz到100Hz的频率范围中的指向分量及平移分量。另一系统抖动源是照明光源，其将具有在0.5Hz到10Hz的频率范围中的固有不稳定性。第三系统抖动源是潜在地由各种外力激发的检验系统组件(例如光学基座及机械接触件)的机械振动，其影响照明光束的位置在0.1Hz到100Hz的频率范围中的指向分量及平移分量。

这些系统抖动源通常难以有效地从检验系统移除，从而意味着照明光束在未在经改进检验系统中经补偿的情况下将保持未对准。

因而，可期望提供一种用于解决先前方法的缺点(例如上文识别的缺点)的系统及方法。

发明内容