[发明专利]波长分散型荧光X射线分析装置和采用它的荧光X射线分析方法有效

专利信息
申请号: 201780028012.7 申请日: 2017-08-31
公开(公告)号: CN109196340B 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 加藤秀一;片冈由行;藤村一;山田隆 申请(专利权)人: 株式会社理学
主分类号: G01N23/223 分类号: G01N23/223;G01N23/207
代理公司: 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 代理人: 刘卓然
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 波长 分散 荧光 射线 分析 装置 采用 方法
【权利要求书】:

1.一种波长分散型荧光X射线分析装置,该波长分散型荧光X射线分析装置为集中光学系统的波长分散型荧光X射线分析装置,其包括:

X射线源,该X射线源对试样照射一次X射线;

发散狭缝,该发散狭缝使由试样产生的二次X射线通过;

分光元件,该分光元件对通过该发散狭缝的二次X射线进行分光,将其汇聚;

位置敏感型检测器,该位置敏感型检测器包括多个检测元件,该多个检测元件在上述分光元件中的分光角度方向排列,针对通过上述分光元件对二次X射线进行汇聚而形成的汇聚二次X射线,通过对应的上述检测元件,检测构成汇聚二次X射线的不同的分光角度的二次X射线的各强度;

上述发散狭缝、上述分光元件和位置敏感型检测器固定;

该波长分散型荧光X射线分析装置包括:

测定波谱显示机构,该测定波谱显示机构将上述检测元件的排列方向的位置和上述检测元件的检测强度的关系作为测定波谱而显示于显示器中;

检测区域设定机构,在该检测区域设定机构中,借助操作人员,在上述检测元件的排列方向设定峰值区域和本底区域,该峰值区域为与测定对象的荧光X射线相对应的上述检测元件的区域,该本底区域为与测定对象的荧光X射线的本底相对应的上述检测元件的区域;

定量机构,该定量机构根据峰值强度、本底强度与预先计算的本底补偿系数,计算作为净强度的测定对象的荧光X射线的强度,进行定量分析,该峰值强度是对位于上述峰值区域的上述检测元件的检测强度进行累加计算而得到的,该本底强度是对位于上述本底区域的上述检测元件的检测强度进行累加计算而得到的。

2.一种荧光X射线分析方法,该荧光X射线分析方法采用权利要求1所述的波长分散型荧光X射线分析装置,进行定量分析,在该方法中:

针对通过上述测定波谱显示机构而显示的测定波谱中的测定对象的荧光X射线的本底的外形相似的分析对象品种的试样,

根据规定的检测区域设定用试样的测定波谱,通过上述检测区域设定机构,设定上述峰值区域和上述本底区域;

根据规定的系数计算用试样的本底强度,计算单一的本底补偿系数。

3.一种荧光X射线分析方法,该荧光X射线分析方法采用权利要求1所述的波长分散型荧光X射线分析装置,进行定量分析,在该方法中:

针对通过上述测定波谱显示机构而显示的测定波谱中的测定对象的荧光X射线的本底的外形不同的分析对象品种的试样,

根据规定的检测区域设定用试样的测定波谱,通过上述检测区域设定机构,按照下述方式设定上述峰值区域和其两侧各1个的上述本底区域,该方式为:在上述检测元件的排列方向,从上述峰值区域的中心到各本底区域的中心的距离相等;

根据规定的系数计算用试样的本底强度,计算2个本底补偿系数。

4.根据权利要求1所述的波长分散型荧光X射线分析装置,其中,上述测定波谱显示机构:

根据规定的空白试样的测定波谱,通过假定射入上述检测元件的本底的强度在上述检测元件的排列方向是一定的,针对各检测元件,计算作为入射强度相对检测强度的比的灵敏度系数;

代替上述测定波谱,或与上述测定波谱一起地,在显示器中,将下述关系作为补偿波谱而显示,该关系指上述检测元件的排列方向的位置,与上述检测元件的检测强度和上述灵敏度系数相乘而得到的补偿检测强度的关系。

5.一种荧光X射线分析方法,该荧光X射线分析方法采用权利要求4所述的波长分散型荧光X射线分析装置,进行定量分析,在该方法中:

针对通过上述测定波谱显示机构而显示的补偿波谱中的测定对象的荧光X射线的本底的外形相似的分析对象品种的试样,

根据规定的检测区域设定用试样的补偿波谱,通过上述检测区域设定机构,设定上述峰值区域和上述本底区域;

根据规定的系数计算用试样的本底强度,计算单一的本底补偿系数。

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