[发明专利]波长分散型荧光X射线分析装置和采用它的荧光X射线分析方法

说明书

本发明的波长分散型荧光X射线分析装置包括：位置敏感型检测器(10)，该位置敏感型检测器(10)通过对应的检测元件(7)，检测不同的分光角度的二次X射线(41)的各强度；测定波谱显示机构(14)，该测定波谱显示机构(14)将检测元件(7)的排列方向的位置和检测元件的检测强度的关系作为测定波谱而显示于显示器(15)中；检测区域设定机构(16)，该检测区域设定机构(16)设定峰值区域和本底区域；定量机构(17)，该定量机构(17)根据峰值区域的峰值强度、本底区域的本底强度与本底补偿系数，计算作为净强度的测定对象的荧光X射线的强度，进行定量分析。

相关申请

本申请要求申请日为2016年9月30日，申请号为JP特愿2016－194355的申请的优先权，通过参照其整体作为构成本申请的一部分的内容而引用。

技术领域

本发明涉及具有集中光学系统的波长分散型荧光X射线分析装置和采用它的荧光X射线分析方法。

背景技术

在荧光X射线分析中，为了以良好的精度而测定在试样中包含的微量元素，必须要求正确地对从照射了一次X射线的试样而产生的荧光X射线的本底进行补偿。由此，在具有集中光学系统的波长分散型荧光X射线分析装置中，具有下述的装置，其中，设置感光狭缝，该感光狭缝具有通过单一分光元件而进行分光，在单一检测器之前邻接而设置的多个开口，切换使二次X射线通过的开口，对来自试样的荧光X射线的本底进行补偿(专利文献1)。由于该集中光学系统用作固定光学系统，故通常其用于单元素用的荧光X射线分析装置，或多元素用同步型荧光X射线分析装置。

在几乎全部的场合，像以示意方式表示荧光X射线波谱PS和本底波谱BS的图9那样，在荧光X射线的波谱PS的某峰值区域PA和峰值接近区域BA，本底波谱BS近似线性地变化。一般，在扫描型荧光X射线分析装置中，通过在峰值接近区域移动测角器来测定本底强度，视为可在峰值区域和峰值接近区域以相同程度的灵敏度测定本底强度，从峰值测定强度中扣除本底测定强度，求出净强度。

另一方面，像在专利文献1中记载的那样，在固定有分光元件和检测器的集中光学系统的波长分散型荧光X射线分析装置中，设置感光狭缝，该感光狭缝具有在单一的检测器之前邻接而设置的多个开口，将使二次X射线通过的开口切换到峰值接近区域，测定本底强度，但是由于其灵敏度低于峰值区域，故经测定其强度低于实际上产生的本底强度。由此，仅仅通过从峰值测定强度中单纯地扣除峰值接近区域的本底测定强度，无法求出正确的净强度。

于是，在具有集中光学系统的波长分散型荧光X射线分析装置中，还具有下述的装置，其中，设置多个分光元件以及选择射入单一检测器中的二次X射线的光路的机构，切换所采用的分光元件，通过视为相同程度的灵敏度，测定峰值强度和本底强度，对来自试样的荧光X射线的本底进行补偿。另外，还具有下述的装置，其中，代替上述装置的光路选择机构，而检测器采用位置敏感型检测器，同时地在短时间内测定峰值强度和本底强度(专利文献2)。

现有技术文献

专利文献1：JP特开平8－128975号公报

专利文献2：国际公开2004－086018号公报

发明内容

发明要解决的课题

但是，在于专利文献2中记载的装置中，由于具有多个分光元件，以便分别测定荧光X射线和其本底，故具有装置的结构复杂，成本高，装置的组装、调整所需要的时间长的问题。

于是，本发明是针对上述过去的问题而提出的，本发明的目的在于提供一种波长分散型荧光X射线分析装置和采用它的荧光X射线分析方法，其中，通过简单的结构，快速地通过进行与试样的品种相对应的本底区域的测定，正确地对经测定其强度低于实际上产生的本底强度的本底进行补偿，可求出正确的净强度，可进行高精度的定量分析。

用于解决课题的技术方案