[发明专利]用于生产经涂覆的基底的方法、经涂覆的基底及其用途

权利要求书

1.用于制造经涂覆的非金属基底、尤其是塑料基底的方法，包括

a)提供非金属基底，尤其是塑料基底，所述基底具有能够在至少一部分区域被涂覆的至少一个表面，

b)提供用于涂覆金属层的涂覆系统，尤其是真空气相沉积系统或溅射系统，

c)提供至少一个等离子发生器和/或至少一个电晕系统，尤其是在所述用于涂覆金属层的涂覆系统中或作为其组件，所述涂覆系统例如所述真空气相沉积系统或溅射系统，

d)任选地，对所述非金属基底、尤其是所述塑料基底，或者对所述非金属基底的可涂覆表面、尤其是所述塑料基底的可涂覆表面，用所述等离子发生器进行等离子处理和/或进行电晕处理，

e)任选地，用至少一种有机硅化合物、尤其是通过使用等离子聚合，处理步骤a)或d)获得的所述非金属基底，尤其是所述塑料基底，或者处理所述非金属基底的可涂覆表面，尤其是所述塑料基底的可涂覆表面，因此形成聚硅氧烷层，

f)任选地，对步骤e)的所述聚硅氧烷层用所述等离子发生器进行等离子处理和/或进行电晕处理，

g)任选地，将至少一层任选着色的底涂层涂覆至步骤a)或d)的所述非金属基底、尤其是所述塑料基底上，或者涂覆至步骤a)或d)的所述非金属基底的可涂覆表面上、尤其是所述塑料基底的可涂覆表面上，或者涂覆至步骤e)或f)的所述聚硅氧烷层上，

h)任选地，对步骤g)的所述底涂层用所述等离子发生器进行等离子处理和/或进行电晕处理，

i)任选地，用至少一种有机硅化合物、尤其是通过使用等离子聚合，处理步骤g)或h)获得的所述底涂层，因此形成聚硅氧烷层，

j)任选地，对步骤i)的所述聚硅氧烷层用所述等离子发生器进行等离子处理和/或进行电晕处理，

j-k)涂覆至少一层无光泽涂层、尤其是无光泽着色涂层，例如无光泽漆，尤其是根据DIN EN ISO 2813:2014(发布日期：2015-02)分别测定的具有光泽等级“中等光泽”(G2)或优选具有光泽等级“无光泽”(G3)的涂层，或者涂覆至少一层光泽涂层、尤其是光泽着色涂层，例如光泽漆，尤其是根据DIN EN ISO 2813:2014(发布日期：2015-02)测定的具有光泽等级“光泽”(G1)的涂层，优选地涂覆所述无光泽涂层，

k)用所述涂覆系统，尤其是通过使用气相沉积和/或溅射技术，将至少一层金属层涂覆至步骤j-k)的所述涂层上，所述金属层含有第一金属或由第一金属组成，所述第一金属选自铝、银、金、铅、钒、锰、镁、铁、钴、镍、铜、铬、钯、钼、钨、铂、钛、锆和锌，尤其是铝，或者所述金属层含有第一金属合金或由第一金属合金组成，所述第一金属合金选自黄铜，青铜，钢，尤其是特殊钢，铝、镁和钛的合金，

l)任选地，对步骤k)的所述金属层用所述等离子发生器进行等离子处理和/或进行电晕处理，

m)优选地用至少一种有机硅化合物、尤其是通过使用等离子聚合，处理步骤k)或l)获得的所述金属层，因此形成聚硅氧烷层，

n)优选地对步骤m)的所述聚硅氧烷层用所述等离子发生器进行等离子处理和/或进行电晕处理，以及

o)将至少一层外涂层、尤其是透明和/或着色的外涂层涂覆至步骤k)、l)、m)或n)的所述层上，尤其是涂覆至步骤n)的所述经处理的聚硅氧烷层上。

2.如权利要求1所述的方法，特征在于

将所述金属层、尤其是铝层在步骤k)中以一厚度涂覆，尤其是使用气相沉积或溅射技术，使得所述金属层，尤其是步骤l)、m)、n)和/或o)的金属层对于可见光是不透明和不半透明的，和/或在步骤o)之前进行步骤m)和n)。