[发明专利]用于生产经涂覆的基底的方法、经涂覆的基底及其用途

说明书

本发明涉及用于生产经涂覆的非金属基底和经涂覆的金属基底的方法。所述方法的变体的特征在于，无光泽涂层或光泽涂层在通过使用气相沉积和/或溅射获得的金属层下面，而在另一方法变体中，通过使用气相沉积和/或溅射获得的金属层必须足够薄，使得其对可见光保持透明或半透明。本发明还涉及具有上述层的经涂覆的非金属基底和经涂覆的金属基底。本发明还涉及所述经涂覆的非金属基底和经涂覆的金属基底的用途。

描述

本发明涉及制造经涂覆的基底的方法、经涂覆的基底以及这些经涂覆的基底的用途。

金属和非金属组件经常被涂覆以产生光滑和/或光亮的表面。通常，其涉及多层涂覆系统。除了希望得到具有高品质的吸引人的外观的表面之外，与此类涂覆系统有关的目的也通常是为了实现显著的防腐蚀。通常，由于机械损伤，长期的防腐蚀不起作用。在很多情况下，即使是非常轻微的损伤也会在经涂覆的表面上引起腐蚀。除了褪色之外，其也可以导致渗透现象。通常，其进而导致涂层区域的剥落。不缺乏目的在于使经涂覆的光亮表面抵抗腐蚀的实验。例如，DE 123 765 A1描述了在金属表面上产生防腐蚀层的方法，其中使用了基于硅化合物的溶胶、氨基烷基官能化的烷氧基硅烷或两种前述组分的转化产物。

根据DE 38 33 119 C2，在没有中间干燥的情况下，通过在铬化层上直接沉积电沉积涂层，获得了非常好地附着于基底的防腐蚀铬化金属表面。

然而，用于金属基底的腐蚀防护涂层仍然表现出改善附着和防腐蚀的巨大潜力，尤其是对于大量生产的产品，尤其是具有复杂几何结构的产品。

也已经表明，以低成本且同时高品质生产具有无光泽或着色外观的经涂覆的金属外观基底并非是不重要的。

因此本发明基于以下目的：提供不再由于现有技术的缺陷而受损的经涂覆的基底，并且其(尤其是针对大量生产)提供具有良好防腐蚀和/或非常好的附着性质的经涂覆的产品。在此，还旨在提供在机械表面损伤(尤其是与层的剥落无关的机械表面损伤)的情况下不立即表现出渗透现象的此类经涂覆的产品。

因此，已经发现了用于制造经涂覆的非金属基底、尤其是塑料基底的方法，所述方法包括：

a)提供非金属基底，尤其是塑料基底，所述基底具有能够在至少一部分区域被涂覆的至少一个表面，

b)提供用于涂覆金属层的涂覆系统，尤其是真空气相沉积系统或溅射系统，

c)提供至少一个等离子发生器和/或至少一个电晕系统，尤其是在用于涂覆金属层的涂覆系统中或作为其组件，所述涂覆系统例如真空气相沉积系统或溅射系统，

d)任选地，对非金属基底，尤其是塑料基底，或者对非金属基底的可涂覆表面，尤其是塑料基底的可涂覆表面，用等离子发生器进行等离子处理和/或进行电晕处理，

e)任选地，用至少一种有机硅化合物、尤其是通过使用等离子聚合，处理步骤a)或d)获得的非金属基底，尤其是塑料基底，或者处理所述非金属基底的可涂覆表面，尤其是所述塑料基底的可涂覆表面，因此形成聚硅氧烷层，

f)任选地，对步骤e)的聚硅氧烷层用等离子发生器进行等离子处理和/或进行电晕处理，

g)任选地，将至少一层任选着色的底涂层涂覆至步骤a)或d)的非金属基底、尤其是塑料基底上，或者涂覆至步骤a)或d)的非金属基底的可涂覆表面、尤其是塑料基底的可涂覆表面上，或者涂覆至步骤e)或f)的聚硅氧烷层上，

h)任选地，对步骤g)的底涂层用等离子发生器进行等离子处理和/或进行电晕处理，

i)任选地，用至少一种有机硅化合物、尤其是通过使用等离子聚合，处理步骤g)或h)获得的底涂层，因此形成聚硅氧烷层，

j)任选地，对步骤i)的聚硅氧烷层用等离子发生器进行等离子处理和/或进行电晕处理，