[发明专利]部件承载件的批量制造有效

专利信息
申请号: 201780029749.0 申请日: 2017-04-07
公开(公告)号: CN109314064B 公开(公告)日: 2022-05-17
发明(设计)人: 海因茨·莫伊齐;迪特马尔·德罗费尼克 申请(专利权)人: 奥特斯奥地利科技与系统技术有限公司
主分类号: H01L21/56 分类号: H01L21/56;H01L23/538;H01L21/60;H01L23/00;H01L23/31;H05K1/18
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 王晖;李丙林
地址: 奥地利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 部件 承载 批量 制造
【权利要求书】:

1.一种制造批量部件承载件(600)的方法,所述方法包括:

提供多个单独的晶片结构(400),每个晶片结构包括多个电子部件(402);

将所述晶片结构(400)与至少一个导电层结构和至少一个电绝缘层结构同时地层压在一起;

将从所述层压得到的结构单个化成多个部件承载件(600),每个所述部件承载件包括所述电子部件(402)中的至少一个电子部件、所述至少一个导电层结构的一部分和所述至少一个电绝缘层结构的一部分;

其中,所述单个化只有在批量层压过程之后才进行,并且所述单个化包括多个所述晶片结构的单个化。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述方法还包括:在所述层压之前,将多个所述晶片结构(400)布置在包括所述至少一个导电层结构和所述至少一个电绝缘层结构中的至少一个层结构的共同板件(510)上,并且将所述至少一个导电层结构和所述至少一个电绝缘层结构中的至少一个其他层结构布置在位于所述共同板件(510)之上的多个所述晶片结构(400)上。

3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述方法还包括:在所述层压之前,将所述晶片结构(400)中的至少一个晶片结构以及将所述至少一个导电层结构(500)和所述至少一个电绝缘层结构(500)中的至少一个层结构布置在牺牲芯(700)的第一主表面上,并且,将所述晶片结构(400)中的至少一个其他晶片结构以及将所述至少一个导电层结构(500)和所述至少一个电绝缘层结构(500)中的至少一个其他层结构布置在所述牺牲芯(700)的相反的第二主表面上。

4.根据权利要求3所述的方法,其中,所述牺牲芯(700)由中心稳定层(702)组成,所述中心稳定层在其第一主表面上被第一释放层(704)覆盖,并且在其第二主表面上被第二释放层(706)覆盖。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中,所述晶片结构(400)的至少一部分是完整的晶片。

6.根据权利要求5所述的方法,其中,所述晶片结构(400)的至少一部分是完整的圆形晶片。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中,所述晶片结构(400)的至少一部分是部分晶片。

8.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中,所述晶片结构(400)的至少一部分是带条形的部分晶片。

9.根据权利要求1所述的方法,其中,所述至少一个导电层结构和所述至少一个电绝缘层结构构成共同板件(510),所述共同板件的尺寸为24英寸×18英寸、或24英寸×21英寸。

10.根据权利要求9所述的方法,其中,将恰好六个完整的半导体晶片(400)布置在所述共同板件(510)上。

11.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中,将所述晶片结构(400)布置在所述至少一个导电层结构和所述至少一个电绝缘层结构的至少一个底侧部分的顶部上,使得所述晶片结构(400)的仍然暴露的有源区与所述底侧部分相反。

12.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中,所述方法还包括:在所述单个化之前,形成多个贯穿连接部(2700),所述贯穿连接部延伸穿过所述至少一个电绝缘层结构,以用于电接触由所述电子部件(402)和所述至少一个导电层结构组成的组中的至少一种。

13.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中,将所述部件承载件(600)成形为板。

14.根据权利要求13所述的方法,其中,将所述部件承载件(600)配置为由印刷电路板和基板组成的组中的一种。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奥特斯奥地利科技与系统技术有限公司,未经奥特斯奥地利科技与系统技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780029749.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top