[发明专利]细胞培养基质、细胞内含物的制备方法、细胞培养基质的制备方法

说明书

本发明的目的在于提供一种耐培养液性良好、细胞毒性低，且所培养细胞的黏着率和细胞存活率高、热稳定性良好，而且难以吸收紫外线的细胞培养基质。在包含由无机材料组成的基板的细胞培养基质中，细胞培养基质在培养面上具有多个凹凸结构，在依据JISB0601以及JISR1683并使用原子力显微镜测量凹凸结构时(测量区域为1μm四方，低通轮廓曲线滤波器的截断值为1nm，高通轮廓曲线滤波器的截断值为170nm)，至少在一个方向上的凹凸结构的轮廓曲线元素的平均长度是1～170nm(平均线是在根据最小二乘法将曲线修正为直线时，与其直线平行，且表示轮廓曲线中高度的累计相对频率分布为50％的线，其中，曲线表示被所述高通轮廓曲线滤波器阻断的长波长成分)。

技术领域

本发明涉及一种细胞培养基质、细胞内含物的制备方法、细胞培养基质的制备方法、细胞观察方法以及细胞培养基质的维护液。

背景技术

近年来，将在体外培养细胞取得的细胞组织向体内移植的再生医学技术备受瞩目。例如，通过细胞培养皿培养分化为活体组织的各种细胞，使iPS细胞等干细胞和骨、血管、皮肤、心脏等活体组织再生的再生医学技术的研发有了较大的发展。

作为用于细胞培养的基质，通常使用聚苯乙烯细胞培养皿。然而，在将聚苯乙烯细胞培养皿作为培养基质使用时，存在所培养细胞的黏着率和细胞存活率较低的问题。另外，由于聚苯乙烯细胞培养皿的耐热性较低，因此存在无法通过加热灭菌而循环使用的问题。

在专利文献1中，记载有着眼于聚苯乙烯细胞培养皿不适合于原代细胞培养和不包含血清的细胞培养等用途，在培养细胞的基体表面施加硅胶(colloidal silica)膜的细胞培养装置。

在专利文献2中，记载有通过对具有无定形二氧化硅(silica)的表面上的分子或者分子聚集体进行酶修饰，制作出生物活性表面的方法，并且记载有在酶修饰中使用多肽的内容，以及利用该方法进行细胞培养的内容。

在专利文献3中，记载有含有丙烯酸甲氧基乙酯、二甲基丙烯酰胺的共聚物、从水膨胀性粘土矿物以及二氧化硅中选择的一种以上无机材料的细胞培养基质。

在专利文献4中，记载有作为无需使用胶原凝胶等添加物而可以将细胞三维凝聚的细胞块(球状体)培养为均等大小的细胞培养基质，具有在基质的表面设有多个深度为100～ 500μm、内径为100～1000μm的凹陷部的结构的细胞培养基质。并且还记载有该细胞培养基质还具有最频距离为2nm～10μm的连续凹凸结构。

在专利文献5中，关于细胞培养基质，记载有如下一种细胞培养基质。其着眼于细胞聚集体(球状体)的形成起点以及细胞聚集体的伸展，作为适于提高聚集体形成效率的结构，在玻璃基板的一面排列有多个开口部为漏斗形状且在其底部具有细孔的凹部，凹部通过至少由玻璃基板清洗工序、Cr膜掩膜形成工序、抗蚀剂掩模形成工序、根据刻蚀的Cr膜掩膜开口形成工序、以及玻璃基板的湿法刻蚀工序构成的工序流程形成。

在非专利文献1中，记载有在金属纳米点/聚乙二醇的基质表面上，金属纳米点和其他金属纳米点的间隔为58nm时，比110nm时具有良好的细胞培养特性。

【专利文献】

【专利文献1】日本专利文献特表平11-513254号公报

【专利文献2】日本专利文献特表2007-535320号公报

【专利文献3】日本专利文献特开2013-102713号公报

【专利文献4】日本专利文献特开2012-249547号公报

【专利文献5】日本专利文献特开2013-39071号公报

【非专利文献】